激光脉冲沉积装置公司价格合理 沈阳鹏程有限公司

脉冲激光沉积设备介绍

以下是沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您一起分享的内容，沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产脉冲激光沉积，欢迎新老客户莅临。

是比较理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2d材料。blue wave还提供相关系统配件，例如基片加热装置、原位监测工具。智能视窗不仅可准确监视沉积过程中的靶材激光注入量otlf，而且可长时间保持激光束光路的清洁6。此外，bluewave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层，例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶si/sic、晶体aln-gan、聚合物、纳米钻石、hfcvd钻石涂层以及器件加工。

脉冲激光沉积系统的特点有哪些？

?  真空不锈钢腔体

?  可集成热蒸发源或溅射源

?  可旋转的耐氧化基片加热台

?  流量计或针阀准确控制气体流量

?  标准真空计?  干泵与分子泵

?  可选配不锈钢快速进样室

?  可选配基片-靶材距离自动控制系统

?  是金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格的较佳设备

以上就是为大家介绍的全部内容，希望对大家有所帮助。如果您想要了解更多脉冲激光沉积的知识，欢迎拨打图片上的热线联系我们。

脉冲激光沉积的原理

脉冲激光沉积原理：在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击，利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来，再沉积在不同的衬底上，从而形成薄膜。

脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物，氮化物，---物薄膜，金属薄膜，磁性材料等。

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脉冲激光沉积系统的配置介绍

沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售脉冲激光沉积，我们为您分析该产品的以下信息。

1.靶: 数量6个，大小1-2英寸，被激光照射时可自动旋转，靶的选择可通过步进电机控制;

2.基板:采用适合于氧气环境铂金加热片，大小2英寸，加热温度可达1200摄氏度，温度差<3%，加热时基板可旋转，工作环境的压力可达300mtorr;

3.基板加热电源，高到1200度;

4.真空成膜室腔体:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度<5e-8 pa;

5.样品搬运室:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度<5e-5 pa;

6.排气系统:分子泵和干式机械泵;

7.阀门: 采用真空挡板阀;

8.真空检测:真空计;

9.气路两套: 采用气体流量计控制;

10.薄膜生长监控系统: 采用扫描型差分rheed;

11.监控系统:基板温度的监控和设定，基板和靶的旋转，靶的更换等;

12.各种电流导入及测温端子;

13.其它各种构造:各种真空位移台，磁力传输杆，真空法兰，真空密封垫圈，真空用波纹管等;