天津电镀锌加工-「多图」

光亮---镀铜液中的氯离子对镀层有何影响?

光亮---镀铜液中的氯离子对镀层有何影响?答:在光亮酸性镀铜溶液中必须存在少量氯离子才能得到全光亮镀层，其含量一般控制在10～80 毫克/升，如含量过低，镀液整平性能和镀层光亮度均下降，且易产生光亮树枝条纹，---时镀层粗糙有，甚至烧焦。过高时，镀层光亮度下降和低电流密度区不亮。氯离子可用---或---溶液的形式加入。因为一般工业用---铜和活性炭中含有少量氯离子，所以新配溶液时，可不必另加氯离子。

为什么硬铬电镀在施镀前要进行预热处理?

答:不论是什么钢件进行镀硬铬，在电镀之前，必须将它在镀槽中进行“预热”。所谓“预热”，就是在施加电流之前，先把零件放到镀铬槽中不通电给以加热，使金属零件的温度升到接近或等于镀液温度，而后才能通电施镀。这是因为镀硬铬时，镀层一般较厚，镀铬层内应力大且硬度高，而基体和铬的膨胀系数往往差别较大，如不预热就施镀，基体零件在受镀过程中就逐渐升温膨胀，它往往把镀层顶裂甚至成“暴皮”。受镀的零件越大(轴类件的轴径愈大)则“预热”时间应愈长，这是---获得结合力---镀层的先决条件。

真空电镀是一种在高真空中加热和蒸发金属或化合物的方法

真空电镀是一种在高真空中加热和蒸发金属或化合物的方法，通过将蒸发的原子或分子应用于要电镀的物体，在表面上形成金属或化合物的薄膜。在这里，薄膜是指厚度小于1μ的薄膜。工业应用包括装饰、包装纸等，将铝沉积在金属光泽上，作为电气应用，用于电阻和电容器。如果地基不释放气体，它可以使用非金属，而不仅仅是金属。

此外，真空电镀的沉积方法包括pvd物---相沉积和cvd法化学气相沉积。pvd 使用热和等离子体能量蒸发固体材料，并将其沉积在基板上。 cvd是一种利用热和等离子体等能量的气体，包括薄膜和元素，通过激发和分解在基板表面吸附和形成薄膜。