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NR9 3000PY光刻胶厂家近期行情「赛米莱德」

发布者: 北京赛米莱德贸易有限公司  时间:2021-8-18 






光刻胶的应用

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光刻胶的概述  

光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。

光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过---后,受到光照的部分变得容易溶解,经过显---被溶解,只留下未受光照的部分形成图形;而负胶却恰恰相反,经过---后,受到光照的部分会变得不易溶解,经过显---,留下光照部分形成图形。

负胶在光刻工艺上应用早,其工艺成本低、产量高,但由于它吸收显影液后会膨胀,导致其分辨率即光刻工艺中所能形成图形不如正胶,因此对于亚微米甚至更小尺寸的加工技术,主要使用正胶作为光刻胶。

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光刻胶介绍

光刻胶可分为半导体光刻胶、面板光刻胶和pcb光刻胶。其中,半导体光刻胶的技术壁垒较高。

从技术水平来看,在pcb领域,国产光刻胶具备了一定的技术和量产能力,已经实现对主流厂商大批量供货。

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光刻胶的成分

树脂:光刻树脂是一种惰性的聚合物基质 ,是用来将其他材料聚合在一-起的粘合剂。 光刻胶的粘附性、胶膜厚度等都是树脂给的。

感光剂:感光剂是光刻胶的---部分,他对光形式的辐射能,---在紫外区会发生反应。---时间、光源所发射光线的强,度都根据感光剂的特性选择决定的。

溶剂:光刻胶中容量较大的成分,感光剂和添加剂都是固体物质,为了方便均匀的涂覆,要将他们加入溶剂进行溶解,形成液态物质,并且使之具有---的流动性,可以通过选择方式涂布在waf er表面。

添加剂:用以改变光刻胶的某些特性,如---光刻胶发生反射而添加染色剂。

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