抛光白布厂商多重优惠「新-光电」
单面平面研磨机系列型号和价格: hd-380、hd-380x;该系列的设备抛光直径为170mm,其中抛光盘直径为380mm,“x”表示这款设备带有修盘机。
hd-610、hd-610x、hd-610q、hd-610xq;该系列的设备抛光直径为240mm,其中抛光盘直径为610 mm ,“x”这款设备带有修盘机,“q”表示这款设备带有自动升级气缸。价格分别为:6万、7万、7.5万、8.5万。
hd-910、hd-910x、hd-910q、hd-910xq ;该系列的设备抛光直径为350mm,其中抛光盘直径为910mm,“x”这款设备带有修盘机,“q”表示这款设备带有自动升级气缸。价格范围为:7万~10万。
1,抛光布是采用超精密bai涂布技术,将精密研du磨微zhi粉涂布于高强耐磨布基表面而成,dao广泛用于zhuantft-lcd制程中偏光片贴附前的清洁处理。其中磨料种类可有氧化铝、-、氧化、金刚石、碳酸钙、碳化硅等。
2,抛光皮主要有聚氨脂抛光皮,白色抛光皮,阻尼布,沥青抛光布,羊毛轮等种类,聚氨脂抛光皮主要用来抛光水晶玻璃,手表镜片,---头玻璃,手机玻璃等,它里面含有二氧化等稀土材料,并且硬度达到90度以上,在高速抛光玻璃的过程中,有效的保护了玻璃不易踏边导角等问题,并且---,,是目前---的不可获缺的抛光材料之一。
硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程,要获得---的抛光片,必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到-种平衡。
如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用,则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用,则表面产生高损伤层。
制备高浓度的氧化抛光液想要优异的抛光效果,必须要氧化粉在抛光液体系中,具备---的悬浮性.分散性,否则如果分散性不好,容易导致有大
颗粒,或者悬浮性不好,都会影响抛光的效果,---的话会损坏机器,因此做好氧化抛光液粉体的悬浮性和分散性需要加入特定的分散剂或者悬浮剂来
解决这个难题。
对于网格状抛光垫表面,具有较大孔尺寸的抛光垫储存、运送抛光液的能力较强,但太大孔会导致抛光垫的密度减小、硬度降低。抛光垫的粗糙度对材料去除率有着直接的影响。抛光垫粗糙的表面有利于提高材料去除率,这是因为表面粗糙度高的抛光垫与工件表面的接触面积减小,而且粗糙的抛光垫表面可储存更多的抛光液,因此作用在单颗磨粒上的力增大,单颗磨粒的去除材料体积增大。优化抛光垫表面粗糙度可在提高抛光效率的同时获得无损伤层的工件表面。此外,抛光垫厚度也是一个重要因素。对于作为后工序超精密抛光,抛光垫厚度必须优化。
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