台州光刻板

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务！

光刻和刻蚀有什么不同？ 

这2个词是半导体材料加工工艺中的关键流程，必须相互配合剖面图---， i 好自身找本半导体材料加工工艺的书看。 “光刻”就是指在涂上光刻胶的圆晶或是叫硅片顶盖上事前搞好的光呆板，随后用紫外光隔着光呆板对圆晶开展必须時间的直射。基本原理就是说运用紫外光使一部分光刻胶霉变，便于浸蚀。 “刻蚀”是光刻后，用浸蚀液将霉变的那一部分光刻胶浸蚀掉正胶，圆晶表层就---集成电路工艺以及联接的图型。随后用另这种浸蚀液对圆晶浸蚀，产生集成电路工艺以及电源电路。除了对应于电路的图案之外，完整的光掩模图案还包括一些辅助图案或测试图案。

光致抗蚀剂也被称为光致抗蚀剂。 掩模板上的图案被转移到晶片表面顶层的光致抗蚀剂上，并且在后续工艺中保护下面的材料(蚀刻或离子注入)。光致抗蚀剂由光敏树脂、光引发剂、添加剂、溶剂等组成。 其中，光敏树脂是光刻胶的关键成分。

光呆板业界别称光掩模板、掩膜版，光罩，英文名字 mask 或 photomask，材料：石英玻璃、金属铬和光感应胶，该商品是由石英玻璃或是碳酸钠夹层玻璃做为衬底，在其上边镀上一层层金属铬和光感应胶。在塑料薄膜、塑胶或夹层玻璃化学反应原材料上制做各种各样作用图型并精i明确位，便于用以光致抗蚀剂镀层可选择性曝 i 光的这种构造，称之为光刻掩模板。苏州制版，面向中小企业、大学、研究所客户，提供包括全系列精度和面积的铬版和菲林版。

声明提示：

本页信息（文字、图片等资源）由用户自行发布,若侵犯您的权益请及时联系我们，我们将迅速对信息进行核实处理。