北京负性光刻胶厂家询问报价
光刻胶:用化学反应进行图像转移的媒介
光刻胶具有光化学敏感性,其经过---、显影、刻蚀等工艺,可以将设计好的微细图形从掩膜版转移到待加工基片。
光刻胶和集成电路制造产业链的前端的即为光刻胶---化学品,生产而得的不同类型的光刻胶被应用于消费电子、家用电器、信息通讯、汽车电子、航空航天等在内的各个下游终端领域,需求较为分散。
光刻胶基于应用领域不同一般可以分为半导体集成电路ic光刻胶、 pcb光刻胶以及lcd光刻胶三个大类。其中, pcb光刻胶占全球市场24.5%,半导体ic光刻胶占全球市场24.1%,lcd光刻胶占全球市场26.6%。
光刻胶编码
hs编码:
3707100001 [类注] | [章注] | [子目注释]
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