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蚌埠4T燃气锅炉低氮排放询问报价 安徽盛能一站式服务

发布者:安徽盛能环保科技有限公司  时间:2021-11-7 






电子厂如何处理焊锡废气?

  低温等离子法

  低温等离子法的原理是在使用高压静电法的同时,在静电场的前端建立等离子体场,利用其能量激发的大量自由基降解烟灰颗粒,降低其粘度。在等离子体产生过程中,高频放电产生的瞬时能量可以打开有害气体的化学键,将它们分解成元素原子或无害分子。该技术是目前市场上油烟和烟气的处理技术,去除率可达90%以上,处理后的气体达到排放标准,维护方便。




常用的有机废气处理工艺

低温等离子体技术  

等离子体技术在短时间内对包括芳香类化合物的有机废气处理效率是很低的,主要是生成中间产物。如采用大功率等离子体在稳定的有机废气中,也要在一定的时间内才有处理效果。而对于工产源源不断高速排出的vocs废气,其处理效率很低并会次生很多中间副产物,导致vocs成分更复杂(这些副产物的危害性可能)、同时设备运行时会产生大量无用臭氧。且有机废气绝大部分是易1燃、易1爆的化合物。






活性炭吸附法

工作原理

活性炭吸附法由于前期投资较低,是目前应用1多的vocs处理办法,是通过活性炭的自然吸附能力吸附vocs,当吸附饱和后,活性炭脱附再生或交给危废公司处理。

实际应用情况

运用活性炭吸附法进行vocs处理的公司对其设备的除污参数,基本上都会提到此类设备的除污效率达到90%以上,但在实际除污应用过程中,除污效率达到90%以上只是理论值。而且在不同的工作环境下,其除污效率远比这个理论数值低。主要原因包括温度、工作环境湿度、水雾、酸度、灰尘及被吸附气体之间的相互作用等。例如我国南方全年湿度较大,气温较高,其活性炭实际吸附量不足实验室的50%。






废气处理工艺——光催化氧化工艺

光催化氧化工艺简介

光化学和光催化氧化法是目前研究较多的一种高1级氧化技术。光催化反应即在光的作用下进行的化学反应。分子吸收特定波长的电磁辐射后,是分子达到激发态,然后发生化学反应,产生新的物质,或成为热反应的引发剂。

光催化氧化工艺原理及流程

vocs废气处理9大工艺、适用范围、成本控制

ti02作为一种半导体材料其自身的光电特性决定了它可以用作光催化剂。半导体的能带结构通常是一个电子填充低能量价带vb和一个空的高能量的导带cb,导带和价带之间的区域被称为禁带。

当照射半导体的光能量等于或大于禁带宽度时,其价带电子被激发,跨过禁带进入导带,并在价带中产生相应空穴。电子从价带激发到导带,激发后分离的电子和空穴都有一部分进一步进行反应。








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