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zf500有机蒸发镀膜机

广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高功能薄膜、蒸镀电极等，半导体、有机el、oled显示研究与开发领域。

系统组成:

主要由真空室、蒸发源、样品台、 真空抽气及测量、膜厚测试 、电控系统组成。

技术指标：

---真空度4×10-5pa，系统漏率：1.2×10-7pal/s； 恢复真空时间：40分钟可达6.0×10 pa-4

真空室：d形真空室，尺寸350× 400mm

样品台：尺寸为4英寸4平面样品；

有机束源炉：数量：4支，标准型600度控温；

样品架：安装加热炉。基片的温度从室温至600℃硅片上表面的温度，只需标定一次即可

4套挡板系统：动密封手动控制；

样品挡板１套，磁力拨叉，

膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999? 

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有机无机蒸发镀膜仪

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有机无机蒸发镀膜仪采用直线式结构，主要由二个有机材料生长室组成，两个有机材料生长室之间通过闸板阀联接，其中一个生长室系统预留与手套箱对接接口，能够完成二套独立的制备薄膜系统之间互相传送基片。zf500有机蒸发镀膜机广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高功能薄膜、蒸镀电极等，半导体、有机el、oled显示研究与开发领域。有机无机蒸发镀膜仪的有机材料生长室主要由真空室腔体组件、有机蒸发源、热阻蒸发舟、样品传递装置、样品台、膜厚监测仪、真空室照明装置、烘烤装置等组成。

派瑞林裂解仪的工作原理

由于裂解碎片的组成和相对含量与被测高分子的结构密切相关，所以，每种高分子的裂解色谱图都各有其特征，我们称之为热裂解指纹色谱图。在热裂解过程中裂解温度丝毫的改变都将直接影响裂解产物，造成色谱图不具有可比性。指纹技术的应用使得分析的重现性变得非常重要。 在热裂解过程中裂解温度丝毫的改变都将直接影响裂解产物，造成色谱图不具有可比性。然而，相对其他裂解方法，居里点裂解仪因其载样材料的特定性，---了裂解温度的准确性，使得分析碎片成分变得简单易行。 jai的特色 众所周知，将热箔片应用于居里点热裂解器仪是jai的---，它已经成为居里点热裂解仪全球化的标准。

因其具有背景干扰低的特点，可用来进行纳克(ng)级分析，故而成为业界定性定量分析的---仪器！ 热箔片适用于固、液各态样品的承载，对于固体，如颗粒、轻质粉末等样品，只需用箔片将其包裹即可，对于液体，如是不可挥发的溶质，可将其点滴于箔片中待溶剂挥发后包裹即可，如是挥发性组分，可用---制玻璃棉吸附再将其包裹。可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统想要了解更多电阻热蒸发镀膜产品的相关内容，请及时关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司网站。

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派瑞林镀膜工艺介绍

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派瑞林镀膜工艺，是一种气相沉积cvd的镀膜方式。0×10pa无机蒸发室：经烘烤6小时左右，并连续抽气真空优于6。其工艺过程如下：首先固态的派瑞林原料在蒸发腔内随着温度的升高逐渐吸热升华；升华后的二聚体气体进入裂解腔，在680℃左右的温度下，二聚体的分子键被断开，形成具有两个悬空键的活性parylene单体；parylene单体被送到室温的真空沉积室里，在工件表面进行聚合沉积，形成一层致密的保护膜层。