浙江负性光刻胶供应商--

光刻胶介绍

光刻胶介绍

光刻胶(又称光致抗蚀剂)，是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、x射线等光源的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻材料。光刻胶具有光化学敏感性，其经过---、显影、刻蚀等工艺，可以将设计好的微细图形从掩膜版转移到待加工基片。因此光刻胶微细加工技术中的关键性化工材料，被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作。生产光刻胶的原料包括光引发剂包括光增感剂、光致产酸剂、光刻胶树脂、单体和其他助剂等。光刻胶的重要性在北京化工大学理学院---聂俊眼里，我国虽然已成为半导体生产大国，但面板产业整体产业链仍较为落后。

芯片光刻的流程详解一

在集成电路的制造过程中，有一个重要的环节——光刻，正因为有了它，我们才能在微小的芯片上实现功能。现代刻划技术可以追溯到190年以前，1822年法---nicephore niepce在各种材料光照实验以后，开始试图复一种刻蚀在油纸上的印痕图案)，他将油纸放在一块玻璃片上，玻片上涂有溶解在植物油中的沥青。经过2、3小时的日晒，透光部分的沥青明显变硬，而不透光部分沥青依然软并可被松香和植物油的混合液洗掉。通过用强酸刻蚀玻璃板，niepce在1827年制作了一个damboise-的雕板相的产品。随着光刻分辨力的提高，对准精度要求也越来越高，例如针对45am线宽尺寸，对准精度要求在5am左右。

niepce的发明100多年后，即第二次大战期间才应用于制作印刷电路板，即在塑料板上制作铜线路。到1961年光刻法被用于在si上制作大量的微小晶体管，当时分辨率5um，如今除可见光光刻之外，更出现了x-ray和荷电粒子刻划等更高分辨率方法。光刻胶介绍光刻胶自1959年被发明以来一直是半导体---材料，随后被改进运用到pcb板的制造，并于20世纪90年代运用到平板显示的加工制造。

nr9-250p

20．有没有光刻胶pc3-6000的资料吗？

a pc3-6000并不是光刻胶，它是用在chip

on glass 上的胶粘剂。

21．是否有wax替代品？

a pc3-6000可替代wax做晶片和玻璃的固定，比较容易去除掉。

22．贵公司是否有粘接硅衬底和衬底的材料？

a 有，ic1-200就是

23．请问是否有不用hmds步骤的正性光刻胶？

a 美国futurrex 整个系列的光刻胶都不需要hmds步骤，都可以简化。

24．一般电话咨询光刻胶，我们应该向客户咨询哪些资料？

a 1 需要知道要涂在什么材质上，2

还有要知道需要做的膜厚，3

还要知道光刻胶的分辨率

4还有需要正胶还是负胶，5

需要国产还是进口的

27．想找一款膜厚在120um，的光刻胶，有什么光刻胶可以做到啊！

a 以前有使用过美国有款光刻胶可以达到futurrex

nr21-20000p ，。

28．有没有了解一款美国futurrex

nr9-250p的光刻胶，请教下？

a 这是一款负性光刻胶，湿法蚀刻使用的，附着力---，耐100度的温度，国内也有可以代理的公司，futurre

光刻胶是第4大的电子化学品制造商，在光刻胶的领域有着---的声誉，在太阳能光伏，和led半导体行业都有---的市场占有率。

29．想找款膜厚的产品，进行蚀刻，有什么好？

a 厚膜应用thick

film applicati，主要是指高纵横比aspect

ratios,高分辨率，高反差，有几款产品向你一下《nr4-8000p，nr2-20000p，nr5-8000，这些产品都需要用到边胶清洗液》

的光刻