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真空镀膜的膜层厚度如何测量？

在使用真空镀膜机镀膜之后，为了需要可能会要测量膜层的厚度，测量膜层的厚度用什么方法呢?

直接的镀膜控制方法是石英晶体微量平衡法(qcm)，这种仪器可以直接驱动蒸发源，通过pid控制循环驱动挡板，保持蒸发速率。

只要将仪器与系统控制软件相连接，它就可以控制整个的镀膜过程。但是(qcm)的---度是有限的，部分原因是由于它监控的是被镀膜的而不是其光学厚度。

此外虽然qcm在较低温度下非常稳定，但温度较高时，它会变得对温度非常敏感。在长时间的加热过程中，很难阻止传感器跌入这个敏感区域，从而对膜层造成重大误差。

光学监控是高精密镀膜的的优选监控方式，这是因为它可以更---地控制膜层厚度(如果运用得当)。

---度的改进源于很多因素，但---的原因是对光学厚度的监控。

真空镀膜机离子镀是什么?

很多人听说过离子真空镀膜机，但是对于真空镀膜机离子镀了解甚少，离子镀是一种镀膜工艺中的一种，下面为大家详细介绍一下：首先给大家它定义：蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，称为离子镀。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。

它的原理是：蒸发源接阳极，工件接阴极，当通以三至五千伏高压直流电以后，蒸发源与工件之间产生辉光放电。由于真空罩内充有惰性ar气，在放电电场作用下部分ar气被电离，从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。带正电荷的ar离子受阴极负高压的吸引，猛烈地轰击工件表面，致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出，从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。随后，接通蒸发源交流电源，蒸发料粒子熔化蒸发，进入辉光放电区并被电离。带正电荷的蒸发料离子，在阴极吸引下，随同ar离子一同冲向工件，当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。

它能分为四类：磁控溅射离子镀。反应离子镀。空心阴极放电离子镀。多弧离子镀。

它的特点：镀层附着性能好，对离子镀后的试件作拉伸试验表明，一直拉到快要断裂时，镀层仍随基体金属一起塑性延伸，无起皮或剥落现象发生；绕镀能力强，因此这种方法非常适合于镀复零件上的内孔、凹槽和窄缝，等其他方法难镀的部位；镀层---，离子真空镀膜机镀膜的镀层组织致密、无孔、无气泡、厚度均匀；清洗过程简化。

离子真空镀膜机镀膜应用范围介绍

近很多客户关于离子真空镀膜机相关知识，问的问题各不相同，但是从这些问题里面能发现一个问题，客户对离子镀膜机相关知识了解甚少，只是停留在基础表面，因此在和我们沟通的过程中，会出现沟通不是很顺利，因为我们需要详细的介绍很多性的问题。今天至成真空小编趁着这个机会，为大家详细介绍一下离子真空镀膜机镀膜应用范围，这样大家以后也知道离子真空镀膜机后期能运用到哪些行业，及离子镀膜机能镀什么产品。

1、离子真空镀膜机镀膜的应用范围：半导体集成电路、光导纤维、太阳能电池、太阳能热水器、太阳灶、光盘、磁盘、敏感元件、平板显示器、选择吸收玻璃、智能窗玻璃、人体植入部件等功能薄膜；

2、离子镀膜技术应用范围：工模具超硬涂层、航天轴承、机械零件；汽轮机叶片的耐蚀涂层；装饰件、手机配件。

3、离子镀薄膜的膜层结构：单源单层：氮化钛涂层tin、tic、zrn、crn、aln等。硬度约1800—2600hv；多元单层：ticn、tialn等。硬度2200—2800hv；复合涂层：tin/ticn、tin/ticn/tin、tin/zrn、tin/crn、tin/aln、tin/c3n4、tin/c3n4/dlc等。硬度3500—4500hv；

4、纳米结构涂层；多层膜中的每一层厚度为nm,也称之为“调制周期”。各层可以是化合物/化合物，也可以是金属非晶/纳米金属化合物，如：nc-tin/a-si3n4、ti-al-n、ti-b-n等。调制周期6.8—30nm，硬度可达4700—10000hv47—100gpa。要求镀膜机的配置能够满足沉积薄膜的厚度为0.2—5μm的纳米多层膜。

真空镀膜机分类

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，包括真空离子蒸发镀膜机、磁控溅镀膜机射、mbe分子束外延镀膜机和pld激光溅射沉积镀膜机等很多种。主要是分成蒸发和溅射两种。在真空镀膜设备中需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程形成薄膜。真空镀膜机对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。

根据工艺要求选择不同规格及类型镀膜设备，其类型有电阻蒸发真空镀膜设备、电子束蒸发真空镀膜设备、磁控溅射真空镀膜设备、离子镀真空镀膜设备、磁控反应溅射真空镀膜设备、空心阴极离子镀和多弧离子镀等。夹具运转形式有自转、公转及公转+自转方式，用户可根据片尺寸及形状提出相应要求，转动的速度范围及转动精度：普通可调及变频调速等。