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化学机械抛光液一般由去离子水、 磨料、ph值调节剂、氧化剂以及分散剂等添加剂组成,根据ph值不同, 分为酸性和碱性。

化学抛光液及其组分的作用.

1磨料

磨料在抛光过程中主要通过微切削、微划擦、滚压等方式作用于工件被加工表面,去除表面材料。的化学机械抛光过程是磨料的机械去除表面材料

厚度等于化学反应生成物层厚度,此时,磨粒只需较小的机械作用去除结合力较弱的化学反应层的生成物,可减少或避免抛光表面缺陷。磨料的硬度、粒

径形状及其在抛光液中的浓度等综合因素决定了磨粒的去除行为和能力。

单晶金刚石微粉

是采用金刚石为原料,经过球磨、分级和净化处理等严格工艺处理而成,所有的产品都符合超纯技术指标。主要用于:

(1)工业上、科学上和医学上各种精密元器件的精磨或抛光加工;

(2)用于树脂粘结工具、金属粘结工具以及电镀工具的制造;

(3)作为精细磨料用于模具加工、宝玉石抛光加工、宝石轴承加工制造;

(4)用作功能材料,例如:利用其热学性质和电学性质。

而分散剂离子会吸附在氧化颗粒表面而成一层包覆层，具有高分子长链的部分在外端起到空间位阻作用，因此分散剂加入量增加,吸附量也增加，颗粒

表面电负性增大,-抛光液的悬浮性,同时分散剂还可以产生-种嵌合吸附效应,将颗粒表面完全覆盖,因此不易出现局部桥联或絮凝现象,使得抛光

液的再分散性变好。

另外悬浮的时间长度要根据粉体的比重来确定,氧化抛光液可以适当加入相应的悬浮剂来增加悬浮性能。