激光脉冲沉积装置厂家「沈阳鹏程」

脉冲激光沉积的优点

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1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有-的保成分性；

2. 沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀；

3. 工艺参数任意调节，对靶材的种类没有-；

4. 发展潜力-，具有-的兼容性；

5. 便于清洁处理，可以制备多种薄膜材料。

pld 主要选件

离子辅助沉积 (ibad)系统介绍

离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。neocera 开发了离子辅助的pld 系统，该系统将pld 在沉积复杂材料方面的优势与ibad 能力结合在一起。

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常规沉积条件下的组合合成

脉冲激光沉积系统特点及优势：

可根据客户需求定制产品，灵活性高，并提供-技术支持；靶台可以安装6个靶位，靶材更换灵活；样品台样品尺寸从10x10mm样品到2英寸样品均适用；进样室可以存储多个靶和样品；交易过程无需繁琐的进、出关手续, 交货期短，-；

沈阳鹏程真空技术有限责任公司拥有-的技术，我们都以为本，信誉高，我们竭诚欢迎广大的顾客来公司洽谈业务。如果您对脉冲激光沉积感兴趣，欢迎-左右两侧的在线，或拨打咨询电话。