由表面层和-组成的半导电辊;该表面层具有较高的电阻值,由橡胶组合物制成;根据本发明的第四方面,所述绝缘橡胶的含量为橡胶成分总量的约30%至约40%。-具有较低的电阻值,由导电橡胶组合物组成。该半导电辊的目的在于通过---地平衡表面层和-的电阻值而获得---的静电充电特性。有---使这两种层的厚度高度准确。为使两种层的厚度高度准确,需要较麻烦的管理,并且生产橡胶辊的成本较高。
平面显示器fpd)这些年来大幅冲击以阴极射线管(crt)为主的电脑显示器及电视机市场,亦将带动ito靶材的技术与市场需求。如今的ito靶材有两种.一种是采用纳米状态的氧化铟混合后烧结,一种是采用铟锡合金靶材。铟锡台金靶材可以采用直流反应溅射制造ito薄膜,但是靶表面会氧化而影响溅射率,并且不易得到大尺寸的台金靶材。如今一般采取方法生产ito靶材,利用l}irf反应溅射镀膜.它具有沉积速度快.且能控制膜厚,电导率高,薄膜的一致性好,与基板的附着力强等优点。例如,在半导体集成电路制造过程中,以电阻率较低的铜导体薄膜代替铝膜布线。
区域提纯后的金属锗,其锭底表面上的电阻率为30~50欧姆 厘米时,纯度相当于8~9,可以满足电子器件的要求。但对于杂质浓度小于[kg2]10原子/厘米[kg2]的探测器级超纯锗,则尚须经过特殊处理。
由于锗中有少数杂质如磷、铝、硅、硼的分配系数接近于1或大于1,要加强化学提纯方法除去这些杂质,然后再进行区熔提纯。电子级纯的区熔锗锭用霍尔效应测量杂质载流子浓度,一般可达10~10原子/厘米。经切头去尾,再利用多次拉晶和切割尾,一直达到所要求的纯度10原子/厘米,这样纯度的锗相当于13所作的探测器,其分辨率已接近于理论数值。简单说的话,靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时,会产生不同的---破坏效应。
陶瓷靶材
ito靶、氧---靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、---锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、二氧化---靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化---靶,、二氧化铪靶,二硼化钛靶,二硼化---靶,三氧化钨靶,三氧化二铝靶五氧化二钽,五氧化二铌靶、---镁靶、---钇靶、---靶、氮化铝靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化钛靶,碳化硅靶,铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸---靶、氧化镍靶、溅射靶材等。所述择点测量机构包括一安装在机座上的第二驱动电机、一对安装在所述第二驱动电机上的第二传动轴、一安装在机座上并与所述第二传动轴平行的滑轨及若干安装在滑轨上的测点探针。
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