NR73G 6000P光刻胶厂家规格齐全「多图」

光刻胶国际化发展

业内人士认为，按照现在“单打独斗”的研发路径，肯定不行。重点支持的-领域2015中提到“高分辨率光刻胶及配套化学品作为精细化学品重要组成部分，是重点发展的新材料技术”。相关部门要加大产业政策的配套支持力度，应从加快完善整个产业链出发，定向梳理国内缺失的、产业依赖度高的关键-电子化学品，要针对电子化学品开发难度高，检测设备要求高的特点，组织汇聚一些优势企业和，形成一个产业联盟，建立一个生产应用平台，集中力量突破一些关键技术。

江苏博砚电子科技有限公司董事长宗健表示，光刻胶要真正实现国产化，难度很大。目前，整个产业是中间加工环节强，前后两端弱，-至今被tok、jsr、住友化学、信越化学等日本企业所垄断。问题是国内缺乏生产光刻胶所需的原材料，致使现开发的产品碳分散工艺不成熟、碳浆材料不配套。而作为生产光刻胶重要的色浆，至今依赖日本。前道工艺出了问题，-不了科研与生产，光刻胶国产化就无期。因此，必须通过科研单位、生产企业的协同-，尽快取得突破。

有提出，尽管国产光刻胶在面板一时用不起来，但还是要从政策上鼓励国内普通面板的生产企业尽快用起来。光刻胶存储条件及操作防护光刻胶是一种可燃液体，储存条件应符合对应的法规，不要与-混合，存放在通风-的地方，保持容器密闭，避免吸入蒸汽或雾气，避免接触眼睛、皮肤或衣服，操作后-清洗。只有在应用过程中才能发现问题，解决问题，不断提升技术、工艺与产品水平，实现我国关键电子化学品材料的国产化，完善我国集成电路的产业链，满足和重点产业的需求。

nr9-3000py

四、对准alignment

光刻对准技术是-前的一个重要步骤作为光刻的三大-之一，一般要求对准精度为细线宽尺寸的 1/7---1/10。随着光刻分辨力的提高 ，对准精度要求也越来越高 ，例如针对 45am线宽尺寸 ，对准精度要求在5am 左右。

受光刻分辨力提高的推动 ，对准技术也经历 迅速而多样的发展 。同种厚度的正负胶，在对于抗湿法和腐蚀性方面负胶-，正胶-。从对准原理上及标记结 构分类 ，对准技术从早期的投影光刻中的几何成像对准方式 ，包括视频图像对准、双目显微镜对准等，一直到后来的波带片对准方式 、干涉强度对准 、激光外差干涉以及莫尔条纹对准方式 。从对准信号- ，主要包括标记的显微图像对准 、基于光强信息的对准和基于相位信息对准。

pc6-16000

nr9-3000py 相对于其他光刻胶具有如下优势：

- 优异的分辨率性能

- 快速地显影

- 可以通过调节-能量很容易地调节倒梯形侧壁的角度

- 耐受温度100℃

- 室温储存保质期长达3 年

nr9-1000py 0.7μm - 2.1μm

nr9-1500py 1.1μm - 3.1μm

nr9-3000py 2.1μm - 6.3μm

nr9-6000py 5.0μm -

12.2μm  

resist thickness

nr71-1000py 0.7μm - 2.1μm

nr71-1500py 1.1μm - 3.1μm

nr71-3000py 2.1μm - 6.3μm

nr71-6000py 5.0μm - 12.2μm

nr9-1000py

问题回馈：

1．我们是led制造商，麻烦几款可以用于离子蚀刻和lift-off工艺的光刻胶。

a 据我所知，futurrex

有几款胶很，nr7-1500p

nr7-3000p是专门为离子蚀刻

设计的，nr9-3000py可以用于lift-off上的应用。

2．请问有没有可以替代goodpr1518，micropure去胶液和goodpr显影液的产品？

a 美国光刻胶，futurrex

正胶pr1-2000a

, 去胶液rr4，和显影液rd6可以解决以上问题。

3．你们是否有可以替代shipley

s1805的用于dvd的应用产品？

a 我们建议使用futurrex

pr1-500a , 它有几个优点：比较好的解析度，比较好的线宽控制，

反射比较少，不需要hmds，rie后去除容易等~

4． 求助，耐高温的光阻是那一种？

a futurrex, nr7 serious(负光阻)orpr1 serious(正光阻)，再经过hmcts

silyiation process,可以达到耐高温200度，pspi透明polyimide,可耐高温250度以上。

5．厚膜光阻在镀金应用上，用哪一种比较理想？

a futurrex , nr4-8000p比干膜，和其他市面上的湿膜适合，和理想。

6．请教lift-off制程哪一种光阻适合？

a 可以考虑使用futurrex

，正型光阻pr1，负型光阻用nr1&nr7,它们都可以耐高温180度，完全可以取代一般制作pattern的光阻。

7．请问，那位知道，rie

mask,用什么光阻比较好？

a 正型光阻用pr1系列，负型光阻使用nr5，两种都可以耐高温180度。

8．一般厚膜制程中，哪一种光阻适合？

a nr9-8000p有-的深宽比超过4：1，一般厚膜以及，mems产品的高需求。

9．在deep

rie和mask 可以使用nrp9-8000p吗？

a 建议不使用，因为使用nr5-8000理想和适合。

10．我们是oled，我们有一种制程上需要一层spacer，那种光阻适合？

a 有一种胶很适合，美国futurrex

生产的nr1-3000py

and和

nr1-6000py,都适合在oled制程中做spacers