NR9 3000PY光刻胶报价-「在线咨询」

光刻胶简介

赛米莱德——光刻胶供应商，我们为您带来以下信息。

光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，-是近年来-和-规模集成电路的发展，更是大-进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。1954 年由明斯克等人首先研究成功的就是用于印刷工业的，以后才用于电子工业。 [1]  光刻胶是一种有机化合物，它被紫外光-后，在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面，而后-燥成胶膜。

光刻胶的组成

以下内容由赛米莱德为您提供，希望对同行业的朋友有所帮助。

树脂( resin/polymer)，光刻胶中不同材料的粘合剂，给与光刻胶的机械与化学性质( 如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等);感光剂，感光剂对光能发生光化学反应;溶剂(solvent),保持光刻胶的液体状态,使之具有-的流动性;添加剂( additive )，用以改变光刻胶的某些特性，如-光刻胶发生反射而添加染色剂等。负性光刻胶。树脂是聚异戊二烯，一-种天然的橡胶;溶剂是;感光剂是一种经过-后释放出氮气的光敏剂，产生的自由基在橡胶分子间形成交联。从而变得不溶于显影液。负性光刻胶在-区由溶剂引起泡涨;-时光刻胶容易与氮气反应而抑制交联。

   光刻胶的主要技术参数

1．灵敏度sensitivity

灵敏度是衡量光刻胶-速度的指标。光刻胶的灵敏度越高，所需的-剂量越小。单位：毫焦/平方厘米或mj/cm2。

2．分辨率resolution

区别硅片表-邻图形特征的能力。一般用关键尺寸cd，critical dimension来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小，光刻胶的分辨率越好。

光刻胶的分辨率是一个综合指标，影响该指标的因素通常有如下3个方面：

(1) -系统的分辨率。

(2) 光刻胶的对比度、胶厚、相对分子等。一般薄胶容易得到高分辨率图形。

(3) 前烘、-、显影、后烘等工艺都会影响光刻胶的分辨率。  

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