天津镀金真空电镀机厂家价格「多图」

影响镀膜机磁控靶点火电压的几个因素

气体压力对点火电压的影响：在磁控靶溅射镀膜工艺过程中，由于磁控靶的阴-阳极间距一经确定就是一个大体不变的值，工作气体的压力在一定的(例如0.1pa~10pa)范围内变化可能会对点火电压产生较大的影响，总的变化趋势为：随着工作气体的压力的逐步增大，磁控靶点火电压相应降低。不同的磁控靶、不同材质的靶材，靶启辉点火的工作气体压强不尽相同。

电源对点火电压的影响：在同等条件下，选用射频靶电源比选中频或直流靶电源，磁控靶阴极点火电压和工作(溅射)电压都会要降低;选用射频、中频正弦半波或脉冲靶电源，比选低频率同类波形靶电源，阴极点火电压和工作(溅射)电压均会要降低;

蒸发真空镀膜机的原理及性能,你了解多少?

今天至成镀膜机真空小编要为大家讲的是蒸发真空镀膜机的原理和性能，段时间还有一个新人问我这方面问题，今天我就把我的知道的阐述出来，和大家一起成长和提升。

在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法早由m.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比，具有较高的沉积速率，可镀制单质和不易热分解的化合物膜。用作真空蒸发镀的装置称为蒸发镀膜机。

金属带镀膜设备

hcmrc系列采用模块化设计，是用于薄膜镀膜的灵活生产工具。通过我们各种技术的-组合，可以生产高反射膜、高吸收膜和装饰性镀膜。此外，为了更广泛的应用，我们还可以沉积防触摸膜层或者防腐膜层。

不锈钢带卷绕镀膜设备采用公司新开发的磁控溅射镀膜技术、阴极电弧离子镀膜技术及-设计的离子源辅助沉积镀膜技术等多种技术组合，成功应用在大卷径宽幅高真空连续卷绕镀膜设备中，可正反面镀制装饰性膜层和防腐蚀膜层，-金属卷材表面特性，扩展应用范围。

模块化设计概念，带材纠偏系统、等离子体预处理、磁控溅射系统、在线测量和工艺控制系统、电子束蒸发灵活组合。膜层均匀性好，沉积，镀膜速度快，是大型不锈钢卷连续镀膜生产线的-选择。