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真空室内蒸发舟的解决方法
原因:蒸发舟内铝料太满。解决方法:下降送铝速度;前进蒸发舟电流。真空室内蒸发舟之间呈现短路。解决方法:打扫短路。真空室内杂质飞溅镀铝时薄膜呈现拉伸现象原因:基材张力太大。解决方法:调节放卷、卷取张力操控系统,恰当减少张力。冷却系统作业反常。解决方法:查看冷却系统,并打扫毛病。薄膜外表呈现褐色条纹原因:真空度低解决方法:清洗真空室内的送铝、蒸镀设备、冷却系统、放卷、卷取设备及导辊;查看抽真空系统;下降环境湿度。薄膜开释气体。解决方法:薄膜预单调;延伸抽真空时刻。喷铝过多。解决方法:前进车速;下降蒸发舟电流;下降送铝速度。蒸发舟内有杂质。解决方法:清洗蒸发舟及热屏蔽板。
离子电流几乎与气体流量成正比
简单-。离子电流几乎与气体流量成正比,可以获得的离子电流。钨丝一般穿过出口,受到离子束的冲击会很快被腐蚀,-是对于反应性气体,通常需要十几个小时才能更换。而且钨丝也会有一定的污染。解决钨丝的缺点。有-的中和剂,如小型空心阴极源。霍尔离子源是应用的离子源。离子源,如veece的marki和markii。适合大部分国产离子源。
真空镀膜技术是一项新兴的技术
真空镀膜技术是一项新兴的技术,国际上直到60年代才开始将cvd(化学气相镀膜)技术应用到硬质合金工具中。因为这种方法需要在高温(工艺温度高于1000oc)下进行,且涂层类型单一,局限性很大,所以在开发初期还有待改进。离子镀膜的基本原理:在真空条件下,采用一定的等离子体离子化技术,使镀层原子部分离子化,同时产生大量高能中性原子,并在镀层表面施加负偏压。因此,在-负偏压作用下,离子沉积在基体表面形成薄膜。
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