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安徽工业四-碳价格-种类齐全 安徽谱纯性能-

发布者:安徽谱纯气体科技有限公司  时间:2021-11-14 







四-碳的热稳定性-。化合物的热稳定性主要与化学键的键能及键长有关。零下198 °c时,四-碳具有单斜的结构,晶格常数为a = 8.597, b= 4.433, c = 8.381 (.10-1 nm), β = 118.73° 。四-碳的溶氧性-,因此被科学家用于超-潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功,在275米到366米的-内,小白鼠仍可安全脱险。四-碳在900℃时,不与铜、镍、钨、钼反应,仅在碳弧温度下缓慢分解,微溶于水,在25℃及0.1mpa下其溶解度为0.0015%重量比,然而与可燃性气体燃烧时,会分解产生有毒-物。






四-碳是一种卤代烃,化学式cf4。它既可以被视为一种卤代烃、全-碳,也可以被视为一种无机化合物。零下198 °c时,四-碳具有单斜的结构,晶格常数为a = 8.597, b= 4.433, c = 8.381 (.10-1?nm), β = 118.73° 。高纯四-碳主要用于集成电路、半导体的等离子刻蚀领域,可用来蚀刻硅、二氧化硅、氮化硅等硅材料,是用量大的等离子蚀刻气体。此外,高纯四-碳还可用于印刷电路板清洁、电子元器件清洗、太阳能电池生产等领域。四-碳的溶氧性-,因此被科学家用于超-潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功,在275米到366米的-内,小白鼠仍可安全脱险。


四-碳的溶氧性-,因此被科学家用于超-潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功,在275米到366米的-内,小白鼠仍可安全脱险。随着芯片制程向7纳米迈进,细微杂质对芯片的损害更为明显,电子产业对高纯电子气体的纯度要求进一步提高,在此背景下,我国高纯四-碳生产技术与产品仍有提升空间。是微电子工业中用量大的等离子蚀刻气体,高纯气高纯氧的混合气,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。



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