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-研究人员一直致力于开发取代电镀的表面防护技术的研究,物理气相沉积(pvd)技术作为一种环境友好技术,具有很多其他技术所不具备的特点,通过控制其工艺参数可以得到晶粒细小、厚度均匀、膜基结合力优异的镀层;同时由于pvd是一种干法镀技术,可以避免湿法镀时酸性或碱性电解质溶液残留在磁体孔隙内和电镀过程中磁体吸氢而导致镀层脆裂的缺点。然而，pvd表面处理受批量生产成本和某些因素的-,现在并没有-生产应用。同时由于pvd是一种干法镀技术,可以避免湿法镀时酸性或碱性电解质溶液残留在磁体孔隙内和电镀过程中磁体吸氢而导致镀层脆裂的缺点。

真空镀膜的操作规程

1．在真空镀膜机运转正常情况下，开动真空镀膜机时，须先开水管，工作中应注意水压。

2．在离子轰击和蒸发时，应-注意高压电线接头，不得触动，以防触电。

3．在用电子枪镀膜时，应在钟罩-上铝板。观察窗的玻璃用铅玻璃。

4．镀制多层介质膜的镀膜间，应安装通风吸尘装置，及时排除有害粉尘。

5．有毒物品要妥善保管，以防。

6．酸洗夹具应在通风装置内进行，并要戴橡皮手套。

7．把零件放入酸洗或碱洗槽中时，应轻拿轻放，不得碰撞及溅出。平时酸洗槽盆应加盖。

8．工作完毕应断电、断水。

镀膜设备种类复杂，只需要按照大的工艺分常有的，比如蒸发、磁控溅射、离子等pvd镀膜技术，按没个镀膜加工企业要求不同又需要配置不同的设备和程序。

真空镀膜设备的多弧离子镀膜工艺不仅避免了传统表面处理的缺陷，而且各项技术指标优于传统工艺，广泛应用于五金加工、机械设备、化工、模具制造、电子产品、仪器等领域。

真空镀膜设备磁控溅射镀膜机常见问题：真空镀膜设备磁控溅射镀膜机其工作原理是在真空状态下，使用弧光放电和辉光放电的工作原理。在金属和非金属的工件表面上镀制金色的氮化钛，黑色碳化钛，七彩的氮氧化钛等。真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。亦可镀防腐蚀膜如al,cr不锈钢及tin等和耐磨膜，膜层与基底结合牢固，利用溅射工艺进行镀膜，可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。适合于塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材等行业，具有-的发展前景。