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NR9 8000光刻胶价格品质售后-「赛米莱德」

发布者: 北京赛米莱德贸易有限公司  时间:2021-11-15 






光刻胶是什么材料

光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,-是近年来-和-规模集成电路的发展,更是大-进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。

1、光刻胶的技术复杂,品种较多。根据其化学反应机理和显影原理,可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶。反之,对某些溶剂是不可溶的,经光照后变成可溶物质的即为正性胶。

2、普通的光刻胶在成像过程中,由于存在一定的衍射、反射和散射,降低了光刻胶图形的对比度,从而降低了图形的分辨率。随着-加工特征尺寸的缩小,入射光的反射和散射对提高图形分辨率的影响也越来越大。为了提高-系统分辨率的性能,人们正在研究在-光刻胶的表面覆盖抗反射涂层的新型光刻胶技术。该技术的引入,可明显减小光刻胶表面对入射光的反射和散射,从而-光刻胶的分辨率性能,但由此将引起工艺复杂性和光刻成本的增加。

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正性光刻胶的操作工艺

(1)合成醛树脂。将原料混和甲醛送人不锈钢釜,加入适量草酸为催化剂,加热回流反应5~6h,然后减压蒸馏去除水及未反应的单体酚,得到醛树脂。(2)合成感光剂。在装有搅拌器的夹套反应罐中,先将三-二-甲酮和215酰氯加至中搅拌下溶解,待完全溶解后,滴加有机碱溶液做催化剂,控制反应温度30~35℃,滴加完毕后,继续反应1h。将反应液冲至水中,感光剂析出,离心分离,干燥。(3)配胶。将合成的树脂、感光剂与溶剂及添加剂按一定比例混合配胶,然后调整胶的各项指标使之达到要求。后过滤分装,光刻胶首先经过板框式过滤器粗滤,然后转入超净间(100级)进行超净过滤,滤膜孔径0.2mm,经超净过滤的胶液分装即为成品。


光刻胶分类

1、负性光刻胶

主要有聚酸系(聚酮胶)和环化橡胶系两大类,前者以柯达公司的kpr为代表,后者以omr系列为代表。

2、正性光刻胶

主要以-醒为感光化台物,以酚醛树脂为基本材料。的有az-1350系列。正胶的主要优点是分辨率高,缺点是灵敏度、耐刻蚀性和附着性等较差。

3、负性电子束光刻胶

为含有环-、乙烯基或环-物的聚合物。 的是cop胶,典型特性:灵敏度0.3~0.4μc/cm2 (加速电压10kv时)、分辨率1.0um、 对比度0.95。-分辨率

的主要因素是光刻胶在显影时的溶胀。

4、正性电子束光刻胶

主要为-、烯砜和-类这三种聚合物。的是pmma胶,典型特性:灵敏度40~ 80μc/cm2 (加速电压20kv时)、分辨率0.1μm、 对比度2~3。

pmma胶的主要优点是分辨率高。主要缺点是灵敏度低,此外在高温下易流动,耐干法刻蚀性差。

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