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正性光刻胶

正性光刻胶

正性光刻胶也称为正胶。正性光刻胶树脂是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛，提供光刻胶的粘附性、化学抗蚀性，当没有溶解存在时，线性酚醛树脂会溶解在显影液中，感光剂是光敏化合物，常见的是--dnq。在-前，dnq是一种-的溶解，降低树脂的溶解速度。在紫外-后，dnq在光刻胶中化学分解，成为溶解度增强剂，大幅提高显影液中的溶解度因子至100或者更高。这种-反应会在dnq中产生羧酸，它在显影液中溶解度-。正性光刻胶比负性的精度要高，负胶显-图形有涨缩，负性胶-在2~3μm。正性光刻胶具有-的对比度，所以生成的图形具有-的分辨率。

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4,-

前烘好的存底放在光刻胶衬底放在光刻机上，经与光刻版对准后，进行-，接受光照的光刻胶发生化学变化，形成潜影，

光源与光刻胶相匹配，也就是光源波长在光刻胶的敏感波段；

对准：指光刻板上与衬底的对版标记应准确对准，这样一套光刻版各版之间的图形才能彼此套准。

-时间，由光源强度，光刻胶种类，厚度等决定，

另外，为降低驻波效应影响，可在-后需进行烘焙，称为光后烘焙peb

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提供-化学技术的多样化解决方案

成立于1985年,总部设在美国新泽西州，富兰克林市,高速成长并超过20年连续盈利的跨国公司

公司业务覆盖范围包括北美，亚太以及欧洲

基于多样化的技术

应用领域：微电子、光电子、led、太阳能光伏、微机电系统、生物芯片、微流体、平面印刷

解决方案：的光刻胶、掺杂涂层、平坦化涂层、旋制氧化硅(spin-onglase)。阻挡层(barrior layere)、湿法制程

客户：从-100强到以风险投资为背景的设备研发及制造公司

使命

目标

提供特殊化学品和全新工艺来增加客户的产能

策略

提供-的产品来优化生产制程，以提高设备能效

领的技术提升生产过程中的整体-

工艺步骤的减少降低了成本和产生瑕疵的可能

增加客户的产能和生产的效率

工艺减化

非同寻常的显微构造、金属及介电层上的图形转换、光刻、平坦化、掺杂、蚀刻、邦定

在生产过程中，不含有害溶剂

支持所有客户的需要，与客户共创成功