黄山中频离子镀膜机来电咨询「多图」

中频磁控+多弧离子溅射镀膜机特点

中频磁控+多弧离子溅射镀膜机具有：结构合理、膜层均匀、成膜-、抽速大、工作周期短、生产、操作方便、能耗低性能稳定等优点。广泛应用于切削刀具如齿轮滚刀，插刀，铣刀，钻头等表面沉积超硬涂层，也可用于钟表，眼镜架，手机壳、锁具，洁具等各类小五金表面沉积装饰涂层，本设备可实现一机多用沉积多种膜层，膜层细腻，有纯钛ti氮化钛tin氧化钛tio纯锆zr氮化锆zrn碳化钛tic纯铬cr氮化铬crn碳氮化钛ticn氮化铝钛tialn，pvd镀膜膜层目前常见的颜色主要有：深金黄色，浅金黄色，咖啡色，古铜色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色,蓝色等。亮度好，饱满度好

至成真空科技可以根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。

真空镀膜机磁控溅射主要工艺流程：

1、基片清洗，主要是用蒸汽清洗，随后用-浸泡基片后快速烘干，以去除表面油污；

2、抽真空，真空须控制在2×104pa以上，以-薄膜的纯度；

3、加热，为了除去基片表面水分，提高膜与基片的结合力，需要对基片进行加热，温度一般选择在150℃~200℃之间；

4、ar气分压，一般选择在0.01~1pa范围内，以满足辉光放电的气压条件；

5、预溅射，预溅射是通过离子轰击以除去靶材表面氧化膜，以免影响薄膜；

6、溅射，ar气电离后形成的正离子在正交的磁场和电场的作用下，高速轰击靶材，使溅射出的靶材粒子到达基片表面沉积成膜；

7、退火，薄膜与基片的热膨胀系数有差异，结合力小，退火时薄膜与基片原子相互扩散可以有效提高粘着力。

真空镀膜机磁控溅射镀膜的特点：薄膜纯度高，致密，厚度均匀可控制，工艺重复性比较好，附着力强。

依据溅射源的不同，真空镀膜机磁控溅射有直流和射频之分，两者的主要区别在于气体放电方式不同，真空镀膜机射频磁控溅射利用的是射频放电，陶瓷产品使用的是射频磁控溅射镀。

离子真空镀膜机镀膜应用范围介绍

近很多客户关于离子真空镀膜机相关知识，问的问题各不相同，但是从这些问题里面能发现一个问题，客户对离子镀膜机相关知识了解甚少，只是停留在基础表面，因此在和我们沟通的过程中，会出现沟通不是很顺利，因为我们需要详细的介绍很多性的问题。今天至成真空小编趁着这个机会，为大家详细介绍一下离子真空镀膜机镀膜应用范围，这样大家以后也知道离子真空镀膜机后期能运用到哪些行业，及离子镀膜机能镀什么产品。

1、离子真空镀膜机镀膜的应用范围：半导体集成电路、光导纤维、太阳能电池、太阳能热水器、太阳灶、光盘、磁盘、敏感元件、平板显示器、选择吸收玻璃、智能窗玻璃、人体植入部件等功能薄膜；

2、离子镀膜技术应用范围：工模具超硬涂层、航天轴承、机械零件；汽轮机叶片的耐蚀涂层；装饰件、手机配件。

3、离子镀薄膜的膜层结构：单源单层：氮化钛涂层tin、tic、zrn、crn、aln等。硬度约1800—2600hv；多元单层：ticn、tialn等。硬度2200—2800hv；复合涂层：tin/ticn、tin/ticn/tin、tin/zrn、tin/crn、tin/aln、tin/c3n4、tin/c3n4/dlc等。硬度3500—4500hv；

4、纳米结构涂层；多层膜中的每一层厚度为nm,也称之为“调制周期”。各层可以是化合物/化合物，也可以是金属非晶/纳米金属化合物，如：nc-tin/a-si3n4、ti-al-n、ti-b-n等。调制周期6.8—30nm，硬度可达4700—10000hv47—100gpa。要求镀膜机的配置能够满足沉积薄膜的厚度为0.2—5μm的纳米多层膜。