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真空镀膜应用是真空应用中的一个大分支,在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛的应用。在涂层-定要清洗产品,避免污染产品,-表面的清洁度。
真空电镀的简单作用过程:真空电镀接通蒸发源交流电源,真空电镀蒸发料粒子熔化蒸发,真空电镀进入辉光放电区并被电离。真空电镀带正电荷的蒸发料离子,阴极吸引下,随同离子一同冲向工件,真空电镀当抛镀于工件表面上的蒸发料离子逾越溅失离子的数量时,真空电镀则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。
真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有障碍。
镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。
真空镀膜的物理过程
基本原理可分为三个工艺步骤:
镀料的气化:即镀料的蒸发、升华或被溅射从而形成气化源
镀料粒子原子、分子或离子的迁移:由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞,产生多种反应。
镀料粒子在基片表面的沉积
真空镀膜的功能是多方面的,这也决定了其应用场合非常丰富。可赋予塑料程亮的金属外观,合适的金属源还可大大增加材料表面耐磨性能,大大拓宽了塑料的装饰性和应用范围。总体来说,真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果,在薄膜材料上使膜层具有-的阻隔性能,供优异的电磁屏蔽和导电效果。电路板镀膜加工报价
真空镀膜应用是真空应用中的一个大分支,在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛的应用。
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