江门LED灯反光杯加工厂家常用指南 佛山市锦城镀膜

佛山市锦城镀膜有限公司以耐高温车辆灯具注塑+镀膜为主的生产厂家，公司秉承“以质-，求真务实，顾客”理念，欢迎广大客户光临了解,我们将为你的产品锦上添花.

物理l气相沉积真空镀膜基本方法 ：

从膜层特点看，真空蒸镀低温时密度小但表面光滑、气孔低温时多、附着性不太好、内应力为拉应力绕射性差；溅射密度大、气孔少但混入溅射气体较多、附着性较好、内应力为压应力、绕射性差；镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响：靶基距：靶基距是影响成膜速率的重要因素之一，随着靶基距增加，被溅射材料射向基片时与气体分子碰撞的次数增多，同时等离子体密度也减弱，动能减少，沉积速率降低，但膜层外观较好。离子镀密度大 ，无气孔但膜层缺陷较多，附着性-，内应力视工艺 条件而定，绕射性较好。

真空镀膜技术优点主要表现在以下几个方面：

   1、使塑料表面有导电性；

   2、容易清洗，不吸尘。

   3、-美观，表面光滑，金属光泽彩色化，装饰性大大提高；

   4、减少吸水率，镀膜次数愈多，愈少，吸水率降低，制品不易变形，提高耐热性。

常见的溅射有两种：不反应溅射和反应溅射。不反应溅射指溅射气体和镀膜材料之间不发生化学反应。因此不反应溅射所使用的气体为惰性气体，一般使用y气ar，称为工作气体。不反应溅射一般都用在镀金属膜层上，导电性能越好的材料，溅射速率越高。

镀膜基片

镀膜基片有：浮法原片、切磨玻璃、钢化玻璃、彩釉玻璃、夹层玻璃等。镀膜前基片必须用纯净水清洗，去除基片表面的灰尘、污垢、油腻等杂质，因为表面的杂质将会影响膜层的附着能力，或者影响镀膜玻璃的外观。如果基片表面存在胶印、笔印等不能清洗掉的杂质，在清洗之前必须用酒精将杂质擦去。镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响：弧靶电流：弧靶电流越大，靶材蒸发量越大，靶面温度越高，冷却越差，弧靶产生的液滴大颗粒越多，膜层外观越差，膜层中的缺陷越多。