磁控溅射机报价-了解更多「沈阳鹏程」

双室磁控溅射系统

想了解更多关于磁控溅射产品的相关，请持续关注本公司。

设备简介

主要特点是设备体积小，结构简单紧凑易于操作，对实验室供电要求低；标配4只φ2英寸永磁靶，4台500w直流溅射电源，主要用来开发纳米级单层及多层的金属导电膜、半导体膜以及绝缘膜等。该系列设备主要部件采用进口或者国内优的配置，从而提高设备的稳定性；另外自主开发的智能操作系统在设备的运行重复性及安全性方面得到---地保障。 目前该系列有基本型、---型、---型、尊享型4种不同配置可供选择，可以根据客户的不同需求进行配置，比较灵活；标配4只φ2英寸永磁靶，4台500w直流溅射电源，主要用来开发纳米级单层及多层的金属导电膜、半导体膜以及绝缘膜等。

磁控溅射“磁控反应”介绍

磁控反应溅射绝缘体看似容易，而实际操作困难。主要问题是反应不光发生在零件表面，也发生在阳极，真空腔体表面以及靶源表面，从而引起灭火，靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术，---的解决了这个问题。靶材和辉光之间为电压降区域，给正离子提供足够能量的电场，正离子加速轰击到靶材上，使靶材的物质溅射出来，沉积到基体上两侧的长线。其原理是一对靶源互相为阴阳极，从而消除阳极表面氧化或氮化。冷却是一切源磁控，多弧，离子所必需，因为能量很大一部分转为热量，若无冷却或冷却不足，这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。

沈阳鹏程真空技术有限责任公司以诚信为首 ,服务为宗旨。公司生产、销售磁控溅射产品,公司拥有---的销售团队和经营理念。想要了解更多信息，赶快拨打图片上的热线电话！

磁控溅射设备的主要用途

沈阳鹏程真空技术有限责任公司拥有---的技术，我们都以为本，信誉高，我们竭诚欢迎广大的顾客来公司洽谈业务。如果您对磁控溅射产品感兴趣，欢迎---左右两侧的在线，或拨打咨询电话。

1各种功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低温沉积氮化硅减反射膜，以提高太阳能电池的光电转换效率。

2装饰领域的应用，如各种全反射膜及半透明膜等，如手机外壳，鼠标等。

3 在微电子领域作为一种非热式镀膜技术，主要应用在化学气相沉积cvd或金属有机

4化学气相沉积cvd生长困难及不适用的材料薄膜沉积，而且可以获得大面积非常均匀的薄膜。

5 在光学领域：中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜如增透膜、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。---是透明导电玻璃广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。

6在机械加工行业中，表面功能膜、超硬膜，自润滑薄膜的表面沉积技术自问世以来得到长足发展，能有效的提高表面硬度、复合韧性、耐磨损性和抗高温化学稳定性能，从而大幅度地提高涂层产品的使用寿命。

磁控溅射除上述已被大量应用的领域，还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用。