抛光白革厂商常用指南「新-光电」

抛光液中常常添加一些化学试剂用于调节抛光液的ph值,以-抛光过程化学反应的进行,化学机械抛光抛光液一般分 为酸性和碱性两大类。

酸性抛光液早是由化学腐蚀液改进而来的,具有溶解性强、氧化剂选择范围大抛光等优点,常用于金属材料的抛光。酸性抛光液的ph值-般

为4左右,可通过加入有机酸作为ph调节剂。其缺点是腐蚀性强,对抛光设备要求高, 选择性较低,但是可加入抗蚀剂-并来提高其选择性,不过

bta的引入会影响抛光液的稳定性。

单晶金刚石相比,多晶金刚石有更多的品棱和磨削面,每条晶棱都具有切削能力,因此有-的去除率。多品金刚石具有韧性和自锐性,在抛光过程中。

粗颗粒会破碎成更小的颗粒,可避免对工件表面造成划伤,既-了工件表面,又提高了研磨切削效率,在某些高要求的产品加工过程中显示出

它-的-性。

主要应用于:蓝宝石衬底、光学晶体及硬盘磁头等的研磨和抛光。

在氧化抛光液分别在不添加分散剂和添加氧化分散剂2种情况下zeta电位随着ph值的变化情况,可以看出,无论是否加入分散剂, ph值对氧化粉体

的悬浮性都有很大影响,随着ph值的增大或减小, zeta电位逐渐变大,抛光液悬浮性逐渐变好。尤其是添加分散剂后,抛光液的zeta电位都向负值

方向移动,且迅速增大。当ph值为11左右时,氧化抛光液悬浮性。