洪梅气相沉积设备厂商常用解决方案 拉奇纳米

parylene 材料

parylene n，聚对二-。将二中的一个氢原子用一个氯原子所取代，就得到parylene c；将其中两个芳香烃氢原子被氯原子取代，就得到parylene d；-环上的4个氢原子被氟取代，即可得parylene f；而将二上的h原子替换为f原子，就得到ht型parylene。

性能和用途

parylene n是一种-的介电材料，具有非常低的介质损耗、高绝缘强度以及不随频率变化的介电常数。它是所有parylene中穿透能力高的一种，有-的自润滑性，摩擦系数为0.25。符合iso-10993生物试验要求，符合udp第六类塑料的生物试验要求。

派瑞林原料cn是一种-的介电材料，具有非常低的介质损耗、高绝缘强度以及不随频率变化的介电常数，是所有派瑞林原料c中穿透能力的一种，并具有-的自润滑性；

派瑞林原料cf具有高通透性和介电性能好的特点，在光电和等领域都有着广泛的应用；

派瑞林原料cht具有-的介电常数，透波性能好，热稳定性好。

派瑞林原料c可以涂敷到各种形状的表面，在盐雾、霉菌、潮湿、腐蚀性等-环境中显示了-的隔离防护功能。而且生物相容性和生物稳定性也好，-无副产物，可以进行常规消毒。随着生物电子科学的不断进步和发展，领域的很多方面都有使用派瑞林。

随着科技和经济的提升，各种类型各种镀膜工艺的真空镀膜设备在不断的增加，其功能也越来越完善。

真空镀膜设备普遍应用于工业生产，在与待镀工件形成薄膜的过程中，可以地测量和控制蒸发或溅射成膜材料的膜厚，从而-膜厚的均匀性。磁控镀膜机的真空镀膜技术的特点主要包括真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀、真空束沉积和化学气相沉积。

磁控溅射镀膜机

各种镀膜技术都需要一个蒸发源或蒸发靶，以便将蒸发的成膜物质转化为气体。随着来源或目标的不断提高，电影制作材料的选择范围也大大扩大。无论是金属、合金、化合物、陶瓷还是有机物，都可以气相沉积各种金属膜和介质膜，不同的材料可以同时气相沉积得到多层膜。

蒸发或溅射出的成膜材料是在一般磁控溅射条件下与待镀工件形成膜的过程。膜厚可以测量和控制。磁控镀膜机的真空镀膜技术的特点主要包括真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀、真空束沉积和化学气相沉积。