生产特种灯具反光杯品牌企业 佛山锦城镀膜

真空镀膜加工流程较长，首先需要对将要进行镀膜的产品进行外观检验，将有瑕疵的产品挑出，因为真空镀膜加工的膜层是纳米级薄膜，无法覆盖产品表面的外观瑕疵。清洗上架，为了避免后制程对产品外观造成二次损伤，所有产品使用治具上架，防止货品之间，货品与其他物品之间造成碰撞，为清洗做准备；清洗，产品会经过打磨、喷砂等处理、再加之运输防护、操作等，表面会残留腊屎、油污、灰尘、胶印等脏污，需要除油除蜡处理；入炉上架，将产品上架至适合炉体的治具上，为入炉镀膜做准备；真空镀膜加工环节，即在炉内沉积过程；对真空镀膜加工产品进行外观全检；包装，对真空镀膜加工后产品进行防护。

膜层抵抗力强，在常规环境下具有不会褪色，不易失去光泽、耐磨损、耐刮擦、不易划伤，且可镀材料广泛，与基体结合力强。

真空镀膜厚度远小于电镀层,但涂层的耐摩擦和耐腐蚀性能-,孔隙率低,而且无氢脆现象,相对电镀加工而言可以节约大量金属材料。真空镀膜加工流程比较复杂，耗时较长，因此，需要进行真空镀膜加工的产品，一定要给真空镀膜加工厂家预留足够的时间，各个环节严格把关，真空镀膜加工的产品才能保质保量！

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。真空镀膜技术可使用的材料广泛:可作为真空镀膜材料有几十种,包括金属、合金和非金属.真空镀膜加工还可以加工出多层结构的复合膜,满足对涂层各种不同性能的需求.

摩擦系数较低，耐腐蚀性较好，耐磨性和抗冲击性-。阴极电弧离子镀具有高的靶电离率和强的膜基键合力的优点，但是在沉积过程中产生了许多大颗粒，这影响了膜的表面粗糙度。磁控溅射具有成膜粗糙度小，无大颗粒，光滑均匀的特点。然而，反应磁控溅射具有高反应性气体或金属靶的电离率，并且所获得的膜往往具有许多空隙和缺陷，这倾向于导致不充分和致密的膜结构和差的耐腐蚀性。目前，两种技术主要用于去除大颗粒污染。第二种是在运输过程中对液体颗粒进行磁过滤。过滤阴极真空电弧沉积是一种磁场，引导等离子体绕过障碍物，而大颗粒由于电中性而与障碍物碰撞，从而去除大颗粒并避开薄膜。