使用电子导电性橡胶时,由于导电性填充剂添加量的变化都会引发电阻剧烈变化,所以存在电阻值很难控制的问题。而且,由于橡胶中的导电性填充剂难以均匀分散,所以辊筒的圆周方向和宽度方向上的电阻值不均匀。
对橡胶组合物进行-处理的方法包括使用加压装置和-处理槽的间歇式或连续式-法。用间歇式-法进行-处理制造辊筒时,由于端部和中央部分会产生压力和热传递差,所以电阻值不均匀。
众所周知,靶材材料的技术发展趋势与下游应用产业的薄膜技术发展趋势息息相关,随着应用产业在薄膜产品或元件上的技术改进,靶材技术也应随之变化。如ic制造商.近段时间致力于低电阻率铜布线的开发,预计未来几年将大幅度取代原来的铝膜,这样铜靶及其所需阻挡层靶材的开发将刻不容缓。另外,近年来平面显示器fpd大幅度取代原以阴极射线管crt为主的电脑显示器及电视机市场.亦将大幅增加ito靶材的技术与市场需求。此外在存储技术方面。高密度、大容量硬盘,高密度的可擦写光盘的需求持续增加.这些均导致应用产业对靶材的需求发生变化。铜互连的阻挡层用靶材包括ta、w、tasi、wsi等.但是ta、w都是难熔金属.制作相对困难,如今正在研究钼、铬等的台金作为替代材料。下面我们将分别介绍靶材的主要应用领域,以及这些领域靶材发展的趋势。
溅射技术:溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速-,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是制备溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。此外,-处理后,由于对每个辊筒都进行了剪切,所以基本上不会出现上述差别,这样就可-长度方向的电阻值的不均匀。
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