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以下是赛米莱德为您一起分享的内容，赛米莱德生产光刻胶，欢迎新老客户莅临。

光刻胶市场空间与半导体的分不开。2012-2018年全球半导体市场规模复合增速8.23%，在全球半导体行业的快速发展下，全球半导体光刻胶市场持续增长。

而-，因全球半导体、液晶面板以及消费电子等产业向国内转移，对光刻胶需求量迅速增量。

但是远远不够，从全球光刻胶的市场竞争格局来看，光刻胶市场主要由日韩企业-，国内企业市场份额集中在低端的pcb光刻胶上，高技术壁垒的lcd 和半导体光刻胶主要依赖进口。根据某些数据显示，国内光刻胶产值当中，pcb光刻胶的占比-95%，半导体光刻胶和lcd光刻胶产值占比都仅有2%。

由-析可知，我国目前在光刻胶领域急需技术突破的。

光刻胶成分介绍

以下内容由赛米莱德为您提供，今天我们来分享光刻胶的相关内容，希望对同行业的朋友有所帮助！

光刻开始于-种称作光刻胶的感光性液体的应用。 图形能被映射到光刻胶上,然后用一个developer就能做出需要的模板图案。 光刻胶又称光致抗蚀剂，以智能管感光材料,在光的照射与溶解度发生变化。

光刻胶成份

光刻胶通常有三种成分:感光化合物、基体材料和溶剂。在感光化合物中有时还包括增感剂。根据光刻胶按照如何响应紫外光的性可以分为两类:负性光刻胶和正性光刻胶。

1、负性光刻胶

主要有聚酯胶和环化橡胶系两大类，前者以柯达公司的kpr为代表,后者以omr系列为代表。

2、正性光刻胶

主要以-醌为感光化合物，以酚醛树脂为基体材料。常用的有az- 1350系列。正胶的主要优点是分辨率高,缺点是灵敏度、而刻蚀性和附着性等较差。

光刻胶的特点

1、在光的照射下溶解速率发生变化,利用-区与非-区的溶解速率差来实现图形的转移;

2、溶解抑制/溶解促进共同作用;

3、作用的机理因光刻胶胶类型不同而不同;