无锡蓝宝石抛光垫报价价格合理 新-光电科技公司
抛光垫 编辑 讨论 上传视频抛光垫又称抛光皮,抛光布,抛光片,化学机械抛光中决定表面的重要辅料。中文名抛光垫外文名polishing pad, polishing cloth按是否有磨料分为有磨料抛光垫和无磨料抛光垫按表面结构平面型、网格型和螺旋线型目录1 分类2 作用3 影响因素分类编辑按是否含有磨料可以分为有磨料抛光垫和无磨料抛光垫; 按材质的不同可以分为聚氨酯抛光垫、无纺布抛光垫和复合型抛光垫; 按表面结构的不同大致可分为平面型、网格型和螺旋线型。
制备高浓度的氧化抛光液想要优异的抛光效果,必须要氧化粉在抛光液体系中,具备-的悬浮性.分散性,否则如果分散性不好,容易导致有大
颗粒,或者悬浮性不好,都会影响抛光的效果, -的话会损坏机器.因此做好氧化抛光液粉体的悬浮性和分散性需要加入特定的分散剂或者县浮剂来
解决这个难题。
那么氧化抛光液分散剂的种类与加入分散剂量是多少,悬浮性要保持多久,分散的效果如何去评定呢,跟以下几个因素相关
聚胺脂抛光片打孔的优点 为了增加抛光液的流动性、提高抛-率,采用打孔类型的聚胺脂抛光片,一般孔的大小为2mm左右,根据镜片口径的大小、设备的转速、r值的不同,孔的排列形式分为90度、60度、45度,更适用于球面加工。
聚胺脂抛光片带背胶的优点 聚胺脂的粘结要选用流动性比较好的胶,有冷胶和热胶两种,如果胶层不均匀带来抛光片的不平整,而造成抛光的光圈不稳,所以采用带背胶的抛光片能达到胶层均匀,一般带背胶的聚胺脂抛光片多用平面加工。
抛光垫是化学机械抛光(cmp)系统的重要组成部分。它具有贮存抛光液,并把它均匀运送到工件的整个加区域等作用。
抛光垫的性能主要由抛光垫的材料种类、材料性能、表面结构与状态以及修整参数等决定。抛光垫的剪切模量或增大抛光垫的可压缩性,cmp过程材料去除率增大;采用表面合理开槽的抛光垫,可提高材料去除率,降低晶片表面的不均匀性;抛光垫粗糙的表面有利于提高材料去除率。对抛光垫进行适当的修整可以增加抛光垫表面粗糙度、使材料去除率趋于一致。与离线修整相比较,在线修整时修整效果比较好。
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