NR9 3000P光刻胶价格-「赛米莱德」

光刻胶的应用

光刻胶的应用

       1975年，美国的国际半导体设备与材料协会首先为微电子工业配套的超净高纯化学品制定了国际统一标准——semi标准。1978年，德国的伊默克公司也制定了mos标准。同种厚度的正负胶，在对于抗湿法和腐蚀性方面负胶-，正胶-。两种标准对超净高纯化学品中金属杂质和(尘埃)微粒的要求各有侧重，分别适用于不同级别ic的制作要求。其中，semi标准更早取得范围内的-。

光刻胶市场

我国光刻胶市场规模2015年已达51.7亿元，同比增长11%，高于国际市场增速，但全球占比仍不足15%，发展空间-。2015年我国光刻胶产量为9.75万吨，而需求量为10.12万吨，依照需求量及产量增速预计，未来仍将保持-的局面。0μmi、g和h线-波长-对生产效率的影响：金属和介电质图案化时省去干法刻蚀加工不需要双层胶技术nr71-1500py1。据智研咨询估计，得益于我国平面显示和半导体产业的发展，我国光刻胶市场需求，在2022年可能突破27.2万吨。在光刻胶生产种类上，我国光刻胶厂商主要生产pcb光刻胶，而lcd光刻胶和半导体光刻胶生产规模较小，相关光刻胶主要依赖进口。放眼国际市场，光刻胶也主要被美国futurrex 的光刻胶、日本合成橡胶jsr、东京应化tok、住友化学、美国杜邦、德国巴斯夫等化工寡头垄断。

光刻胶

pcb

光刻胶

主要分为干膜光刻胶、湿膜光刻胶又称为抗蚀刻/线路油墨、光成像阻焊油墨等。pcb 光刻胶技术壁垒相对较低，主要是中低端产品。

lcd

包含彩色滤光片用彩色光刻胶及黑色光刻胶、lcd 触摸屏用光刻胶、tft-lcd 正性光刻胶等产品。

彩色滤光片是lcd

实现彩色显示的关键器件，占面板成本的14%~16%；在彩色滤光片中，彩色光刻胶和黑色光刻胶是-材料，占其成本的27%左右，其中黑色光刻胶占彩色滤光片材料成本的6%~8%。

半导体光刻胶

包括g 线光刻胶、i 线光刻胶、krf 光刻胶、arf 光刻胶、聚酰ya光刻胶、掩膜板光刻胶等。