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不锈钢化学抛光加工多重优惠「棫楦不锈钢表面处理」

发布者:东莞市棫楦金属材料有限公司  时间:2021-11-23 







化学抛光比较适用于sus304和sus316不锈钢的抛光处理,适用于批量大的零部件,可以快速去除表面毛刺、杂质,批峰,使不锈钢表面平整,光亮,---如新。 化学抛光是靠化学抛光液对金属表面凹凸不平区域的选择性溶解作用消除磨痕、批峰、毛刺,浸蚀整平的一种完全的化学处理工艺方法。  化学抛光的过程是通---为的控制金属表面选择性的溶解而使金属表面达到整平和光亮的金属加工过程。而选择性的溶解,又是指被抛光面的金相学的、结晶学的以及几何学的不均匀性受到不均匀的溶解,凸出部溶解多,而凹谷处溶解很少之意,结果表面就由凹凸不平而变得平整光亮。







化学抛光液的成分随抛光材料的不同而不同。一般为混合酸液。化学抛光溶液由氧化剂和粘滞剂组成。氧化剂起抛光作用,它们是酸类和。常用的酸类有:正磷酸、---、---、---、、等等。粘滞剂用于控制溶液中的扩散和对流速度,使化学抛光过程均匀进行。



化学抛光广泛应用于不锈钢、铜及铝合金等的抛光,还用于对一些零件做装饰加工。化学抛光可作为电镀前的处理工序,也可在抛光后辅以---的防护措施而直接使用。







化学抛光是靠化学试剂的化学浸蚀作用对样品表面凹凸不平区域的选择性溶解作用消除磨痕、浸蚀整平的一种方法。化学抛光设备简单,能够处理细管、带有深孔及形状复杂的零件,生产。化学抛光可作为电镀预处理工序,也可在抛光后辅助以---的防护措施直接使用。

为了进行化学抛光,必须使零件表面的凸部比凹部优先溶解,因此应将化学抛光的作用分为两个阶段来认识。

半导体材料的化学抛光,如锗和硅等半导体基片在机械研磨平整后,还要终用化学抛光去除表面杂质和变质层。常用和、---混合溶液或和氢氧化铵的水溶液。




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