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真空镀膜磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电子交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击亚气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。

不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。

1、东莞真空电镀厂的真空镀膜膜对人的危害很小的。

2、电磁辐射很小。

3、真空泵排气要直接到室外。

4、镀膜结束后，打开真空室时，可能会有大量灰尘，注意别吸到呼吸道中。

5、不要长时间观察等离子体束，可能对我们的眼睛有伤害。

6、如果需要加热，注意别烫到。

7、注意工艺气体不能泄露。

应该是真空溅镀，不是电镀。这种镀膜方式危害很小，对人体危害较大的就是打开真空室时产生的灰尘。

无论是眼镜还是镜头，都希望能让所需要波长的光即某些颜色的光尽可能多地透射过去。但是，当光线进入不同传递物质时如由空气进入玻璃，大约有5% 会被反射掉，在光学-镜中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失达30%至40%。

这些膜叫“增透膜”，顾名思义可以提高某些波长的光的透射。

接下来说一下为什么镀了膜能增加透射；详细说来，各种镀膜的颜色不同主要取决于厚度。

在镀膜的上下表面都会发生反射，这样两束光相遇的时候，其光程差

其中n0是膜的折射率，d是膜的厚度。