深圳四-碳报价-厂家「安徽谱纯」

对于硅和二氧化硅体系，采用cf4-o2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。四-碳的热稳定性-。化合物的热稳定性主要与化学键的键能及键长有关。零下198 °c时，四-碳具有单斜的结构，晶格常数为a = 8.597, b= 4.433, c = 8.381 (.10-1 nm), β = 118.73° 。四-碳是可作为氟和自由基-碳的来源，用于各种晶片蚀刻工艺。四-碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。

 吸入四-碳的后果与浓度有关，包括头1痛、-、头昏眼花及心血1管系统的破坏(主要是-)。长时间接触会导致-的-破坏。因为导致臭氧层破坏的是氟氯烃中的氯原子，它被紫外线辐-中时会分离。碳-氟键比较强，因此分离的可能性比较低。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。

四-碳也一样，比如我们公司生产的钢瓶装四-碳在14mpa的气压下也是液态的，在正常-压下就是气态的，四-碳是有一定毒性的应该不能用作呼吸。四-碳在不同的-压下呈现的状态是不同的，就像氧气在101kpa时会呈现出液态。四-碳是无色、无臭、不燃的可压缩性气体，发挥性较高.四-碳是可作为氟和自由基-碳的来源，用于各种晶片蚀刻工艺。四-碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。

温室气体，其造成温室效应的作用是-的数千倍。氟代烃的低层-中比较稳定，而在上层-中可被能量的紫外线分解。四-碳的溶氧性-，因此被科学家用于超-潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功，在275米到366米的-内，小白鼠仍可安全脱险。由于化学稳定性极强，cf4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。