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真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，包括真空离子蒸发镀膜机、磁控溅镀膜机射、mbe分子束外延镀膜机和pld激光溅射沉积镀膜机等很多种。主要是分成蒸发和溅射两种。在真空镀膜设备中需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程形成薄膜。

真空镀膜机在真空环境中利用电阻加热将金属丝铝、铜、钛雾化，雾化后分子沉积于玻璃、亚克力、塑料表面形成金属化反射面。镀金、镀烙的理想设备。

真空镀膜机注意事项

1、设备接地必须-，并经常检查接地装置导电作用。　　

2、扩散泵和油增压泵加热前必须接通冷却水，泵停止工作，但泵内示冷却至80摄氏度以下时，不得切断冷却水，以防止泵芯烧毁。

3、扩散泵和油增压泵在加热情况下，切勿与-接触，以免泵油氧化。

真空镀膜机是由真空炉体，真空泵，控制柜，真空计，冷却系统等部件组成，真空驴体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。

根据工艺要求选择不同规格及类型真空镀膜机，其类型有电阻蒸发真空镀膜设备、电子束蒸发真空镀膜设备、磁控溅射真空镀膜设备、离子镀真空镀膜设备、磁控反应溅射真空镀膜设备、空心阴极离子镀和多弧离子镀等。

真空镀膜机组成结构是怎样的？一-整的真空镀膜机是由多部分系统组成的，每个系统可以完成不同的功能。

镀膜方式也分多种工艺，常用的有离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜。磁控溅射方式镀制的膜层附着力强，膜层的纯度高，可以同事溅射多种不同成分的材料，离子蒸发镀膜可以提高膜层的致密性和结合力及均匀性。

真空镀膜机镀膜原理一般是根据实际产品工艺需求定制。