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纯化水的维护保养规程
启动制水系统,制取纯化水入纯化水罐约在中位时,开启纯水泵,对纯化水罐和纯化水管道循环冲洗30分钟后,将纯化水输送管道各使用点阀门同时处于半开启状态,使纯化水对阀门处进行清洗3分钟,清洗完后关闭纯水泵;打开纯化水罐排液阀和各使用点的出水阀进行排空。
排空后,继续制备纯化水按以上相同冲洗方法对贮罐和管道进行循环冲洗、排放,直至纯化水罐进水ph、电导率和纯化水各用水点的ph、电导率符合要求。
---制---纯化水设备要求
1、结构设计应简单、---、拆装简便。
2、为便于拆装、更换、清洗零件,执行机构的设计尽量采用的标准化、通用化、系统化零部件。
3、设备内外壁表面,要求光滑平整、无死角,容易清洗、灭菌。零件表面应做镀铬等表面处理,以耐腐蚀,防止生锈。设备外面避免用油漆,以防剥落。
去离子水是指除去了呈离子形式杂质后的纯水。化组织iso/tc 147规定的“去离子”定义为:“去离子水完全或不完全地去除离子物质。”如今的工艺主要采用ro反渗透的方法制取。应用离子交换树脂去除水中的阴离子和阳离子,但水中仍然存在可溶性的有机物,可以污染离子交换柱从而降低其功效,去离子水存放后也容易引起---的繁殖。
去离子水设备适用范围:超纯水经常用于微电子工业、半导体工业、发电工业、制药行业和实验室。cedi纯水也可以作为制药蒸馏水、化工厂工艺用水,以及其它超纯水应用领域。制取电子工业生产如显像管玻壳、显像管、液晶显示器、线路板、计算机硬盘、集成电路芯片,、单晶硅半导体等工艺所需的纯水、高纯水,。电子工业生产,如显像管玻壳、显像管、液晶显示器、线路板、计算机硬盘、集成电路芯片、单品硅半导体等。去离子水是指除去了呈离子形式杂质后的纯水。
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