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四-碳厂-纯度高「在线咨询」

发布者:安徽谱纯气体科技有限公司  时间:2021-11-30 






四---1碳一般认为是惰性低毒物质,在高浓度下是窒息剂,其毒性不及四氯1化碳。四氯1化碳与氟1---的反应在填有氢1氧化铬的高温镍管中进行,反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体,再通过冷冻,用硅胶除去气体中的水分经精馏而得成品。预先称取5~10g的碳化硅粉末和0.1g的单质硅粉,置于镍盘中,使硅和碳化硅充分接触后,将镍盘放入蒙乃尔合金反应管中,向反应管内通入氟气,氟气先和单质硅反应。







四---碳在不同的---压下呈现的状态是不同的,就像氧气在101kpa时会呈现出液态。四---碳是无色、无臭、不燃的可压缩性气体,发挥性较高.四---碳一般认为是惰性低毒物质,在高浓度下是窒息剂,其毒性不及四1氯化碳。产品经除尘,碱洗除去hf、cof2、sif4、co2等杂质、再经脱水可获得含量约为85%的粗品。将粗品引入低温精馏釜中进行间歇粗馏,通过控制精馏温度,除去o2、n2、h2,得到高纯cf4。





由碳与氟反应,或与氟反应,或碳化硅与氟反应,或氟石与石油焦在电炉里反应,都能生成四---碳。储存注意事项:储存于阴凉、通风的不燃气体库房。远离火种、热源。库温不宜超过30℃。应与易可燃物、氧化剂分开存放,切忌混储。储区应备有泄漏应急处理设备。在填有氢氧化铬的高温镍管中进行,反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体,再通过冷冻,用硅胶除去气体中的水分,经精馏而得成品。


电子四---碳是目前半导体行业主要的等离子体蚀刻气体之一,在硅、二氧化硅、金属硅化物以及某些金属的蚀刻,以及低温制冷、电子器件表面清洗等方面被广泛应用。而电子特气系统为它保驾-,---四---碳cf4的纯度和安全稳定使用。在填有氢氧化铬的高温镍管中进行,反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体,再通过冷冻,用硅胶除去气体中的水分,经精馏而得成品。由碳与氟反应,或与氟反应,或碳化硅与氟反应,或氟石与石油焦在电炉里反应,都能生成四---碳。



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