磁控溅射机厂家信息「在线咨询」

小型自动磁控溅射仪

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——磁控溅射产品供应商，我们为您带来以下信息。

1. 溅射室---真空度：≤6.6×10-6 pa

2. 系统真空检漏漏率：≤5.0×10-7pa.l/s

3. 系统从---开始抽气：溅射室30分钟可达到6.6×10-4 pa；

4. 系统停泵关机12小时后真空度：≤5pa

5. 溅射真空室1套，立式上开盖结构，尺寸不小于ф300mm×300mm，全不锈钢结构，弧焊接，表面进行电化学抛光，内含防污内衬，可内烘烤到100～150℃，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封，腔体内有照明系统

6. 磁控溅射系统 3套， 提供3块测试靶材。镀膜不均匀度≤5%

7. 旋转基片台 1套，样品台可放置不小于100mm样品1片，具有连续旋转功能，旋转0—30转/分连续可调。基片加热温度：室温—500°c连续可调，由热电偶闭环反馈控制，加热电源配备控温表，控温方式为pid自动控温及数字显示

8. 观察窗口及法兰接口部件 1套

9. 工作气路1套，包含：100sccm、20sccm流量控制器、cf16截止阀、管路、接头等共2路； dn16充气阀、管路、接头等2路；

10. 抽气机组及阀门、管道 1套，包含1台进口复合分子泵及变频控制电源680l/s ，德国普发hipace700分子泵；1台机械泵4l/s ，1台dn40气动截止阀，机械泵与真空室之间的旁抽管路1套，cc150气动闸板阀1台用于复合分子泵与真空室隔离，节流阀1台，dn40旁抽气阀1台，压差式充气阀1台；若为环形磁场，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的ar来轰击靶材，从而实现了高的沉积速率。管道采用不锈钢三通及波纹管，

11. 安装机台架组件 1套，由方钢型材焊接成，快卸围板表面喷塑处理，机台表面用不锈钢蒙皮装饰，四只脚轮，可固定，可移动。

磁控溅射——溅射技术介绍

直流溅射法：直流溅射法要求靶材能够将从离子轰击过程中得到的正电荷传递给与其紧-触的阴极，从而该方法只能溅射导体材料，不适于绝缘材料。因为轰击绝缘靶材时，表面的离子电荷无法中和，这将导致靶面电位升高，外加电压几乎都加在靶上，两极间的离子加速与电离的机会将变小，甚至不能电离，导致不能连续放电甚至放电停止，溅射停止。故对于绝缘靶材或导电性很差的非金属靶材，须用射频溅射法rf。并且沉降在基片表面，通过成膜过程散点－岛状结构-迷走结构-层状生长形成薄膜。

溅射过程中涉及到复杂的散射过程和多种能量传递过程：入射粒子与靶材原子发生弹性碰撞，入射粒子的一部分动能会传给靶材原子；某些靶材原子的动能超过由其周围存在的其它原子所形成的势垒对于金属是5-10 ev，从而从晶格点阵中被碰撞出来，产生离位原子；这些离位原子进一步和附近的原子依次反复碰撞，产生碰撞级联；真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，mbe分子束外延，pld激光溅射沉积等很多种。当这种碰撞级联到达靶材表面时，如果靠近靶材表面的原子的动能大于表面结合能对于金属是1-6ev，这些原子就会从靶材表面脱离从而进入真空。

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【磁控溅射镀膜设备】使用注意事项

以下是沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您一起分享的内容，沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产磁控溅射产品，欢迎新老客户莅临。

磁控溅射镀膜设备是目种镀膜产品，相比传统的水电镀来讲，磁控溅射镀膜设备---性，能够掩盖，弥补多种水电镀的缺陷。

近年来磁控溅射镀膜设备技术得到了广泛的应用，现国内磁控溅射镀膜设备厂家---小小的也非常多，但是---于磁控溅射镀膜设备生产，

经验丰富的却造磁控溅射镀膜设备厂家，就一定会有一定的规模，这类磁控溅射镀膜设备不像是小件的东西，

磁控溅射镀膜设备其技术含量非常的高，选购磁控溅射镀膜设备时一定要先了解。

磁控溅射镀膜设备技术含量高，那么就一定要拥有一个非常---的磁控溅射镀膜设备技术工程队伍，

磁控溅射镀膜设备行业---的，磁控溅射镀膜设备可根据用户的产品工艺及物殊要求设计配置。

磁控溅射系统介绍

想了解更多关于磁控溅射产品的相关，请持续关注本公司。

真空泵和测量装置：

低真空：干泵和convectron真空规

高真空：涡轮分子泵，低温泵和离子规

5.控制系统：

硬件：plc和计算机触摸屏控制

自动和手动沉积控制

主要特点：

射频电源：基底预先清洗和等离子体辅助沉积

温度控制器：基底加热

大面积基底传送装置

冷却系统