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真空镀膜磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电子交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击亚气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。

不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。

一般要求耐高温的部件，做真空电镀都要在喷一层uv油，这样使得产品表面即有光泽、有耐高温、同时又-附着力。

因此，为-真空电镀的附着力，均需后续进行特殊的喷涂处理,成本当然高些。c、水电镀颜色较单调，一般只有亮银和亚银等少数几种，对于闪银、-蓝、裂纹、水滴银等五花八门的七彩色就-为力了。而真空电镀可以解决七彩色的问题。