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光刻胶的未来市场

光刻胶市场需求逐年增加，2018年全球半导体光刻胶销售额12.97亿美元，而国内光刻胶需求量方面，2011年光刻胶需求量为3.51万吨，到2017年需求量为7.99万吨，年复合增长率达14.69%。

国内光刻胶需求量远大于本土产量，且差额逐年扩大。由于中国---光刻胶市场起步晚，目前技术水平相对落后，生产产能主要集中在pcb光刻胶、tn/stn-lcd光刻胶等中低端产品，tft-lcd、半导体光刻胶等高技术壁垒产品产能很少。

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   光刻胶的主要技术参数

1．灵敏度sensitivity

灵敏度是衡量光刻胶---速度的指标。光刻胶的灵敏度越高，所需的---剂量越小。单位：毫焦/平方厘米或mj/cm2。

2．分辨率resolution

区别硅片表---邻图形特征的能力。一般用关键尺寸cd，critical dimension来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小，光刻胶的分辨率越好。

光刻胶的分辨率是一个综合指标，影响该指标的因素通常有如下3个方面：

(1) ---系统的分辨率。

(2) 光刻胶的对比度、胶厚、相对分子等。一般薄胶容易得到高分辨率图形。

(3) 前烘、---、显影、后烘等工艺都会影响光刻胶的分辨率。  

硅片模具加工如何选择光刻胶呢？

注意事项：

若腐蚀液为碱性，则不宜用正性光刻胶；

看光刻机型式,若是投影方式,用常规负胶时氮气环境可能会有些问题

负性胶价格成本低，正性胶较贵；

工艺方面：负性胶能---地获得单根线，而正性胶可获得孤立的洞和槽；

健康方面：负性胶为有机溶液处理，不利于环境；正性胶属于水溶液，对健康、环境无害。

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光刻胶成分介绍

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光刻开始于-种称作光刻胶的感光性液体的应用。 图形能被映射到光刻胶上,然后用一个developer就能做出需要的模板图案。 光刻胶又称光致抗蚀剂，以智能管感光材料,在光的照射与溶解度发生变化。

光刻胶成份

光刻胶通常有三种成分:感光化合物、基体材料和溶剂。在感光化合物中有时还包括增感剂。根据光刻胶按照如何响应紫外光的性可以分为两类:负性光刻胶和正性光刻胶。

1、负性光刻胶

主要有聚酯胶和环化橡胶系两大类，前者以柯达公司的kpr为代表,后者以omr系列为代表。

2、正性光刻胶

主要以---醌为感光化合物，以酚醛树脂为基体材料。常用的有az- 1350系列。正胶的主要优点是分辨率高,缺点是灵敏度、而刻蚀性和附着性等较差。

光刻胶的特点

1、在光的照射下溶解速率发生变化,利用---区与非---区的溶解速率差来实现图形的转移;

2、溶解抑制/溶解促进共同作用;

3、作用的机理因光刻胶胶类型不同而不同;