无尘净化工程-团队「多图」

 10级：主要用于带宽小于2微米的半导体工业。其空气净化要求仅次于1级，并且我国半导体技术也在发展之中，在未来对洁净度的要求高。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，-是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。净化工程在设计时，无论是新建还是重新改造的净化车间，都一定依照相关标准、规范进行。

工程控制要点

1.选择经过培训的施工队伍

洁净室施工涉及装饰、暖通、电气和气体等，施工人员须对洁净室施工规范、施工工艺、施工有认识，否则，施工很难得到保障。

2.洁净室内密封控制重点

洁净室内密封控制重点内容是围护结构的密封施工，如板材与板材之间应均匀涂密封胶，达到严密不漏风;洁净室内的嵌壁器械柜与墙体之间、壁板上安装 的插座、开关、烟感探测器、照明箱体及灯带、观片灯等都需要用密封胶进行密封，且器械柜中的各种管道和箱体之间也都必须采用-和有效的密封措施。

净化工程在设计时，工程的墙、顶板材一般多采用50mm厚的夹芯彩钢板，其特点为美观、刚性强。圆弧墙角、门、窗框等一般采用-氧化铝型材。净化工程的步的关键是设计，工程设计水平的好与坏将直接关系到整个工程之后的施工，还会影响净化工程今后的稳定性、-性、经济性。相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。

洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力。洁净度级别高的空间的压力要高于相邻的洁净度级别低的空间的压力。相通洁净室之间的门要开向洁净度级别高的房间相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。现在我们的经济科技在发展，同时带动了社会各行各业在告诉发展中。以净化工程这个行业为例，在目前呈现一片喜人的发展态势。