洁净室中的温湿度控制
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在-集成电路生产的光刻---工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，---是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。传递窗门均为双门互锁，即一次只能打开一扇门，打开一扇门之后，另一扇门就不能打开。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产的湿度范围为35—45%。
无窗洁净室的照明方式：
(1)一般照明它指不考虑特殊的局部需要，为照亮整个被照面积而设置的照明。
(2)局部照明这是指为增加某一地点如工作点的照度而设置的照明。但在室内照明由一般不单独使用局部照明。
(3)混合照明这是指工作面上的照度由一般照明和局部照明合成的照明，其中一般照明的照度按《洁净厂房设计规范》应占总照度的10%—15%，但不低干150lx。 单位被照面积上接受的光通量即是照明单位勒克斯(lx)。
垂直层流式：房间---完全以ulpa过滤器覆盖，空气由上往下吹，可得较高之洁净度，在制程中或工作人员所产生的尘埃可快速排出室外而不会影响其它工作区域。
优点：管理容易，运转开始短时间内即可达稳定状态，不易为作业状态或作业人员所影响。
缺点：构造费用较高，弹性运用空间困难，---之吊架相当占空间，维修更换过滤器较麻烦。
在规划净化工程建造时，如何以较小的投入实现做大的效益，完整较大产出，一直是净化工程---非常看重的问题，的经济设计方案是实现效益较大化的选择，净化工程厂家设计方案的优化再优化，更多的是为了在洁净工程成本核算的控制上，如何有效的控制洁净工程的成本，一直是净化---们比较苦闷的事情。洁净隧道(cleantunnel)：以hepa或ulpa过滤器将制程区域或工作区域100%覆盖使洁净度等级提高至10级以上，可节省安装运转费用。
赛达净化坚持秉承以科技为先导、以市场为导向的科学管理理念，凭借规范化管理及的技术力量在食品、---、化妆品、微电子等诸多工业领域设计承建了洁净sc厂房、---厂房、无菌室、实验室及相关配套产品。我们的宗旨：！诚信！！
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