激光脉冲沉积设备厂家-「沈阳鹏程」

pld脉冲激光沉积系统介绍

pld是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。pld方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。

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脉冲激光沉积简介

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——脉冲激光沉积供应商，我们为您带来以下信息。

【设备主要用途】

pld450a型脉冲激光沉积设备采用pld脉冲激光沉积技术，用于制备高温超导薄膜、半导体膜、铁电薄膜、硬质薄膜以及微电子和光电子用多元氧化物薄膜及异质结，也可用于制备氮、碳、硅化合物及各种有机—无机复合材料薄膜及金刚石薄膜等。

【设备优点】

设备全程采用一键式操作抽气，关机，程序自动化定时操作。避免了繁琐的角阀，插板阀人工开启。

【设备主要组成】

设备由沉积腔室单室球形或圆筒形、样品加热转台、激光入射转靶、激光窗、电源控制系统、激光束扫描系统、计算机控制转靶的旋转、脉冲准分子激光器等组成

脉冲激光沉积设备介绍

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是比较理想的薄膜与涂层合成设备。7×10pa恢复真空时间：从1×10pa抽至5×10pa≤20min系统漏率：6。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2d材料。blue wave还提供相关系统配件，例如基片加热装置、原位监测工具。此外，bluewave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层，例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶si/sic、晶体aln-gan、聚合物、纳米钻石、hfcvd钻石涂层以及器件加工。