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RR5光刻胶厂家价格行情 赛米莱德公司

发布者: 北京赛米莱德贸易有限公司  时间:2021-12-20 






美国futurrex光刻胶

北京赛米莱德贸易有限公司供应美国futurrex新型lift-off光刻胶nr9-3000py,此款负胶的设计适用于比较宽的波长范围和i线366纳米---工具。当显---显示出负的侧壁角度,是lift-off工艺中比较简易的光刻胶。和其他胶相比nr9i-3000py有下面的优势: 1. 比较高的光刻速度,可以定制光刻速度来---产量 2. 比较高的分辨率和快的显影时间 3. 根据---能量可以比较容易的调整侧壁角度 4. 耐温可以达到100摄氏度 5. 用rr5去胶液可以很容易的去胶 nr9-3000py的制作和工艺是根据职业和环境的安全而设计。主要的溶剂是,nr9-3000py的显影在水溶液里完成。呼吸器:无论何时在工作环境下呼吸保护必须遵循中国职业安全健康管理局标准的规定和ansi美国---学会z88。属固含量%:31-35 主要溶剂: 外观: 浅液体涂敷能:均匀的无条纹涂敷 100摄氏度热板烘烤300秒后膜厚涂敷自旋速度 40秒自旋。

 


光刻胶市场

全球光刻胶市场扩增,对光刻胶的总需求不断提升。据估计,2015年国际光刻胶市场达73.6亿美元,其中pcb光刻胶占比24.5%,lcd光刻胶占26.6%,半导体光刻胶占比24.1%。2010年到2015年期间,国际光刻胶市场年复合增长率约为5.8%;据中国产业---数据,2015年,pcb光刻胶、lcd光刻胶和半导体光刻胶的国际市场增速均在5%左右。在下游产业的带动下,江瀚咨询预计国际光刻胶市场规模在2022年可能突破100亿美元。光刻的基本原理是利用光致抗蚀剂或称光刻胶感光后因光化学反应而形成耐蚀性的特点,将掩模板上的图形刻制到被加工表面上。


nr77-20000pyrr5光刻胶厂家

光刻胶存储条件及操作防护

光刻胶是一种可燃液体,储存条件应符合对应的法规,不要与-混合,存放在通风---的地方,保持容器密闭,避免吸入蒸汽或雾气,避免接触眼睛、皮肤或衣服,操作后---清洗。


个人防护

眼睛:佩戴化学飞溅护目镜。

皮肤:戴上适当的防护手套防止皮肤暴露。


服装:穿戴合适的防护服防止皮肤暴露。

呼吸器:无论何时在工作环境下呼吸保护必须遵循中国职业安全健康管理局标准的规定和ansi美国---学会z88.2的相关要求,或必须执行欧洲呼吸防护en 149的标准。



nr9-1000py

问题回馈:

1.我们是led制造商,麻烦几款可以用于离子蚀刻和lift-off工艺的光刻胶。

a 据我所知,futurrex

有几款胶很,nr7-1500p

nr7-3000p是专门为离子蚀刻

设计的,nr9-3000py可以用于lift-off上的应用。

2.请问有没有可以替代goodpr1518,micropure去胶液和goodpr显影液的产品?

a 美国光刻胶,futurrex

正胶pr1-2000a

, 去胶液rr4,和显影液rd6可以解决以上问题。

3.你们是否有可以替代shipley

s1805的用于dvd的应用产品?

a 我们建议使用futurrex

pr1-500a , 它有几个优点:比较好的解析度,比较好的线宽控制,

反射比较少,不需要hmds,rie后去除容易等~

4. 求助,耐高温的光阻是那一种?

a futurrex, nr7 serious(负光阻)orpr1 serious(正光阻),再经过hmcts

silyiation process,可以达到耐高温200度,pspi透明polyimide,可耐高温250度以上。

5.厚膜光阻在镀金应用上,用哪一种比较理想?

a futurrex , nr4-8000p比干膜,和其他市面上的湿膜适合,和理想。

6.请教lift-off制程哪一种光阻适合?

a 可以考虑使用futurrex

,正型光阻pr1,负型光阻用nr1&nr7,它们都可以耐高温180度,完全可以取代一般制作pattern的光阻。

7.请问,那位知道,rie

mask,用什么光阻比较好?

a 正型光阻用pr1系列,负型光阻使用nr5,两种都可以耐高温180度。

8.一般厚膜制程中,哪一种光阻适合?

a nr9-8000p有---的深宽比超过4:1,一般厚膜以及,mems产品的高需求。

9.在deep

rie和mask 可以使用nrp9-8000p吗?

a 建议不使用,因为使用nr5-8000理想和适合。

10.我们是oled,我们有一种制程上需要一层spacer,那种光阻适合?

a 有一种胶很适合,美国futurrex

生产的nr1-3000py

and和

nr1-6000py,都适合在oled制程中做spacers




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