惠州五金真空镀膜- 泰坦金属制品有限公司

真空镀膜技术相关问题解答：请问什么是pvd？pvd是英文physical vapor depo?sition的缩写，中文意思是“物---相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽---真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。

请问pvd镀膜的具体原理是什么？离子镀膜(pvd镀膜)技术，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间或决定于装料量，并与源和基片的距离有关。