MBE分子束外延设备价格-「沈阳鹏程」
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设备组成:
设备由薄膜沉积室、真空获得系统、真空测量系统、电子束蒸发系统、水冷却循环系统、膜厚监测及控制系统、安全保护系统组成。
作用:电子束蒸镀常用来制备al、co、ni、fe的合金或氧化物膜,sio2、zro2膜,抗腐蚀和耐高温氧化膜。
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1.蒸发镀膜和溅射镀以及离子镀都是物---相沉积pvd的工艺方法。
2.蒸发镀主要包括:电阻加热蒸发、感应加热蒸发、电子束蒸发、激光加热蒸发、离子束蒸镀等。
3.您所说的e型枪镀膜和直型电子枪镀膜都是属于热蒸发镀膜的范畴。
4.s枪溅射实际就是锥形磁控溅射靶,阴极靶材为环状锥形,安装在水冷座上。环状磁钢套在靶材外边形成曲线磁场,其平行靶面的磁场分量和垂直于靶面的电场分量形成正交电磁场。电子束蒸发镀膜的优势电子束蒸发的优点在于:电子束的光斑可以随意调整,可以一枪多用,灯丝可以隐藏,避免污染,可以蒸发任意镀膜材料,维修方便,蒸发速度可以随意控制,材料分解小,膜密度高。电子束被约束在靶面附近运动,电子流密度很大,在靶面附近产生很强的非弹性碰撞,电离几率很大,形成很强的等离子体。
1. 总电源
2. 同时开电子枪控制ⅰ和电子枪控制ⅱ电源:按电子枪控制ⅰ电源、---开关、电源及保护灯亮,三分钟后--- 及保护灯灭,若后门未关好或水流继电器有故障,保护灯会常亮。
3. 开高压,高压会达到10kv以上,调节束流可到200ma左右,帘栅为20v/100ma,灯丝电流1.2a,偏转电流在1~1.7之间摆动。
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