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磁控溅射镀膜机

各种镀膜技术都需要一个蒸发源或蒸发靶，以便将蒸发的成膜物质转化为气体。随着来源或目标的不断提高，电影制作材料的选择范围也---扩大。无论是金属、合金、化合物、陶瓷还是有机物，都可以气相沉积各种金属膜和介质膜，不同的材料可以同时气相沉积得到多层膜。

蒸发或溅射出的成膜材料是在一般磁控溅射条件下与待镀工件形成膜的过程。膜厚可以测量和控制。磁控镀膜机的真空镀膜技术的特点主要包括真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀、真空束沉积和化学气相沉积。

真空镀膜设备由许多不同的零件组成，它们都是经过各种机械加工完成的，例如车铣、刨、磨、镗、焊接等。这样，零件表面不可避免地会沾上许多加工油脂、汗痕、抛光膏、焊剂、金属屑、油垢等污染物。这些污染物在真空中易挥发，影响真空镀膜设备的---压力和性能稳定性。此外，污染物在---压下吸附了大量的气体，在真空环境中，这些气体也要被释放出来，构成了---真空镀膜设备---压力的因素。为此，零件组装前必须清除掉污染物。

真空镀膜机是由真空炉体，真空泵，控制柜，真空计，冷却系统等部件组成，真空驴体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。

根据工艺要求选择不同规格及类型真空镀膜机，其类型有电阻蒸发真空镀膜设备、电子束蒸发真空镀膜设备、磁控溅射真空镀膜设备、离子镀真空镀膜设备、磁控反应溅射真空镀膜设备、空心阴极离子镀和多弧离子镀等。

真空镀膜机组成结构是怎样的？一---整的真空镀膜机是由多部分系统组成的，每个系统可以完成不同的功能。

真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被成为基片，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发。

其组成包括真空腔、机械泵、真空测试系统、油扩散泵、抽真空系统、冷凝泵以及成膜控制系统等等。