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陕西光刻胶报价生产基地 赛米莱德
光刻加工工艺中为了图形转移，辐照必须作用在光刻胶上，通过改变光刻胶材料的性质，使得在完成光刻工艺后，光刻版图形被在圆片的表面。而加工前，如何选用光刻胶在很大程度上已经决定了光刻的精度。尽管正性胶的分辨力是的，但实际应用中由于加工类型、加工要求、加工成本的考虑，需要对光刻胶进行合理的选择。
划分光刻胶的一个基本的类别是它的极性。光刻胶在-之后，被浸入显影溶液中。在显影过程中，正性光刻胶曝过光的区域溶解得要快得多。理想情况下，未-的区域保持不变。负性光刻胶正好相反，在显影剂中未-的区域将溶解，而-的区域被保留。正性胶的分辨力往往是的，因此在ic制造中的应用更为普及，但mems系统中，由于加工要求相对较低，光刻胶需求量大，负性胶仍有应用市场。
光学光刻胶通常包含以下三种成分：(1)聚合物材料(也称为树脂)。聚合物材料在光的辐照下不发生化学反应，其主要作用是-光刻胶薄膜的附着性和抗腐蚀性，同时也决定着光刻胶薄膜的其他一些特性(如光刻胶的膜厚要求、弹性要求和热稳定性要求等)。(2)感光材料。感光材料一般为复合性物质(简称pac或感光剂)。感光剂在受光辐照之后会发生化学反应。正胶的感光剂在未-区域起抑制溶解的作用，可以减慢光刻胶在显影液中的溶解速度。以正性胶为例，使用g射线和i射线光刻中的正性胶是由-醌(简称为dq)感光剂和酚树脂构成。(3)溶剂(如--，pgme)。溶剂的作用是使光刻胶在涂覆到硅片表面之前保持为液态
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光刻胶按其形成图形的极性可以分为：正性光刻胶和负性光刻胶。正胶指的是聚合物的长链分子因光照而截断成-分子；负胶指的是聚合物的-分子因光照而交链长链分子。 -分子聚合物可以被显影液溶解掉，因此正胶的-部分被去掉，而负胶的-部分被保留。
赛米莱德以诚信为首 ,服务为宗旨。公司生产、销售光刻胶,公司拥有-的销售团队和经营理念。想要了解更多信息，赶快拨打图片上的热线电话！
划分光刻胶的一个基本的类别是它的极性。光刻胶在-之后，被浸入显影溶液中。在显影过程中，正性光刻胶曝过光的区域溶解得要快得多。理想情况下，未-的区域保持不变。负性光刻胶正好相反，在显影剂中未-的区域将溶解，而-的区域被保留。正性胶的分辨力往往是较好的，因此在ic制造中的应用更为普及，但mems系统中，由于加工要求相对较低，光刻胶需求量大，负性胶仍有应用市场。
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