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四-碳的用途与作用 :

 四-碳是可作为氟和自由基-碳的来源，用于各种晶片蚀刻工艺。四-碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四-碳在通常环境下是相对惰性的，在不通风的地方会引起窒息。在射频等离子体环境中，氟自由基表现为典型的三-碳或二-碳的形式。高纯度的四-碳能-的控制加工过程，使尺寸和形状得到-的控制，这不同于其他的卤烃遇到空气或氧气时不利于各种特殊的控制如半导体各项-控制。

 吸入四-碳的后果与浓度有关，包括头1痛、-、头昏眼花及心血1管系统的破坏(主要是-)。长时间接触会导致-的-破坏。因为导致臭氧层破坏的是氟氯烃中的氯原子，它被紫外线辐-中时会分离。碳-氟键比较强，因此分离的可能性比较低。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。

四-碳也一样，比如我们公司生产的钢瓶装四-碳在14mpa的气压下也是液态的，在正常-压下就是气态的，四-碳是有一定毒性的应该不能用作呼吸。四-碳在不同的-压下呈现的状态是不同的，就像氧气在101kpa时会呈现出液态。四-碳是无色、无臭、不燃的可压缩性气体，发挥性较高.四-碳是可作为氟和自由基-碳的来源，用于各种晶片蚀刻工艺。四-碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。

是微电子工业中用量大的等离子蚀刻气体，高纯气高纯氧的混合气，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。温室气体，其造成温室效应的作用是-的数千倍。氟代烃的低层-中比较稳定，而在上层-中可被能量的紫外线分解。在全球范围内，高纯度四-碳应用于欧洲、亚太地区、北美、中东、非洲和南美洲等地区，受电子产业发展程度不同影响，对于高纯度四-碳的需求也不同，亚洲地区由于电子产业发展落后，近几年电子电器行业处于快速发展状态，因此使得该地区的高纯度四-碳消费量持续-。